[發明專利]對焦控制裝置、對焦控制方法、鏡頭裝置、攝像裝置有效
| 申請號: | 201580062377.2 | 申請日: | 2015-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN107003500B | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發明(設計)人: | 櫻武仁史;今村賢司 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G02B7/34 | 分類號: | G02B7/34;G03B13/36;H04N5/232 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;韓香花 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濾波處理 信號組 對焦控制裝置 濾波處理部 相位差檢測 對焦控制 鏡頭裝置 攝像裝置 被攝體 像素 運算 透鏡位置控制 對焦透鏡 結果控制 數碼相機 條件信息 輸出 相位差 運算部 檢測 | ||
1.一種對焦控制裝置,其具備:
多個第1信號檢測部,其接收通過了包含對焦透鏡的攝像光學系統的光瞳區域的沿一個方向排列的不同部分后的一對光束中的一個,檢測與受光量相應的信號;
多個第2信號檢測部,其接收所述一對光束中的另一個,檢測與受光量相應的信號;
濾波處理部,其對從所述多個第1信號檢測部輸出的第1信號組及從所述多個第2信號檢測部輸出的第2信號組,分別實施從多種濾波處理中選擇的第1濾波處理;
相關運算部,其進行由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第1信號組與由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第2信號組的相關運算;及
透鏡位置控制部,其根據所述相關運算部的相關運算的結果,控制所述對焦透鏡的位置,
所述濾波處理部根據被攝體條件信息,從所述多種濾波處理中選擇所述第1濾波處理,
在該對焦控制裝置中,
所述多種濾波處理包含微分濾波處理及積分濾波處理,
所述被攝體條件信息包含根據所述相關運算的結果判定的被攝體的對比度,
在所述濾波處理部中,當所述對比度成為第1閾值以下的狀態連續第2閾值以上的次數時,選擇所述積分濾波處理;當所述對比度超過所述第1閾值時,選擇所述微分濾波處理,
所述第1濾波處理是所述微分濾波處理和所述積分濾波處理中的一種。
2.一種對焦控制裝置,其具備:
多個第1信號檢測部,其接收通過了包含對焦透鏡的攝像光學系統的光瞳區域的沿一個方向排列的不同部分后的一對光束中的一個,檢測與受光量相應的信號;
多個第2信號檢測部,其接收所述一對光束中的另一個,檢測與受光量相應的信號;
濾波處理部,其對從所述多個第1信號檢測部輸出的第1信號組及從所述多個第2信號檢測部輸出的第2信號組,分別實施從多種濾波處理中選擇的第1濾波處理;
相關運算部,其進行由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第1信號組與由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第2信號組的相關運算;及
透鏡位置控制部,其根據所述相關運算部的相關運算的結果,控制所述對焦透鏡的位置,
所述濾波處理部根據被攝體條件信息,從所述多種濾波處理中選擇所述第1濾波處理,
在該對焦控制裝置中,
所述多種濾波處理包含微分濾波處理及積分濾波處理,
所述被攝體條件信息包含被攝體的亮度,
在所述濾波處理部中,當所述亮度成為第3閾值以下的狀態連續第4閾值以上的次數時,選擇所述積分濾波處理;當所述亮度超過所述第3閾值時,選擇所述微分濾波處理,
所述第1濾波處理是所述微分濾波處理和所述積分濾波處理中的一種。
3.一種對焦控制裝置,其具備:
多個第1信號檢測部,其接收通過了包含對焦透鏡的攝像光學系統的光瞳區域的沿一個方向排列的不同部分后的一對光束中的一個,檢測與受光量相應的信號;
多個第2信號檢測部,其接收所述一對光束中的另一個,檢測與受光量相應的信號;
濾波處理部,其分別對從所述多個第1信號檢測部輸出的第1信號組及從所述多個第2信號檢測部輸出的第2信號組,實施從多種濾波處理中選擇的第1濾波處理;
相關運算部,其進行由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第1信號組與由所述濾波處理部進行第1濾波處理之后的第2信號組的相關運算;及
透鏡位置控制部,其根據所述相關運算部的相關運算的結果,控制所述對焦透鏡的位置,
所述濾波處理部根據被攝體條件信息,從所述多種濾波處理中選擇所述第1濾波處理,
在該對焦控制裝置中,
所述多種濾波處理包含微分濾波處理及積分濾波處理,
所述被攝體條件信息包含被攝體的空間頻率,
在所述濾波處理部中,當所述空間頻率成為第5閾值以上的狀態連續第6閾值以上的次數時,選擇所述積分濾波處理;當所述空間頻率小于所述第5閾值時,選擇所述微分濾波處理,
所述第1濾波處理是所述微分濾波處理和所述積分濾波處理中的一種。
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