[發(fā)明專利]注射泵控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580061830.8 | 申請(qǐng)日: | 2015-11-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107427630B | 公開(公告)日: | 2021-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周明東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海澤生科技開發(fā)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61M5/142 | 分類號(hào): | A61M5/142 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 201203 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 注射 控制 方法 | ||
1.一種控制胰島素注射泵的方法,包括步驟:
(1)基于第一胰島素注射方案,獲取待注射胰島素的個(gè)體的在預(yù)定的第一時(shí)刻的第一期望血漿胰島素濃度值,其中所述第一胰島素注射方案為長(zhǎng)效/中效胰島素注射方案;
(2)基于第二胰島素注射方案和所述第一期望血漿胰島素濃度值,計(jì)算初始時(shí)刻的初始應(yīng)注射值;其中所述第二胰島素注射方案為短效/速效胰島素注射方案,其中所述初始時(shí)刻與所述第一時(shí)刻的時(shí)間間隔定義為注射時(shí)間間隔;
(3)基于第二胰島素注射方案,獲取在所述第一時(shí)刻的第一時(shí)刻皮下單體/二聚體胰島素值和第一時(shí)刻組織間隙胰島素值;
(4)基于所述第一胰島素注射方案,獲取在預(yù)定的第二時(shí)刻的第二期望血漿胰島素濃度值;其中所述第二時(shí)刻與所述第一時(shí)刻的時(shí)間間隔等于所述注射時(shí)間間隔;
(5)基于所述第二胰島素注射方案,所述第二期望血漿胰島素濃度值以及所述第一時(shí)刻皮下單體/二聚體胰島素值和所述第一時(shí)刻組織間隙胰島素值,計(jì)算第一時(shí)刻的第一應(yīng)注射值;
(6)基于步驟(3)-(5),以迭代的方法獲取每一時(shí)刻的應(yīng)注射值,直到第N時(shí)刻的第N應(yīng)注射值;其中N與所述注射時(shí)間間隔的乘積等于所述第一胰島素注射方案的持續(xù)時(shí)長(zhǎng)。
2.一種控制胰島素注射泵的方法,包括步驟:
(1)基于第一胰島素注射方案,獲取待注射胰島素的個(gè)體的在預(yù)定的第一時(shí)刻的第一期望血漿胰島素濃度值,其中所述第一胰島素注射方案為長(zhǎng)效/中效胰島素注射方案;
(2)基于第二胰島素注射方案和所述第一期望血漿胰島素濃度值,計(jì)算初始時(shí)刻的初始應(yīng)注射值,其中所述第二胰島素注射方案為短效/速效胰島素注射方案;
(3)基于第二胰島素注射方案,獲取在所述第一時(shí)刻的第一時(shí)刻皮下單體/二聚體胰島素值和第一時(shí)刻組織間隙胰島素值;
(4)基于所述第一胰島素注射方案,獲取在預(yù)定的第二時(shí)刻的第二期望血漿胰島素濃度值;
(5)基于所述第二胰島素注射方案,所述第二期望血漿胰島素濃度值以及所述第一時(shí)刻皮下單體/二聚體胰島素值和所述第一時(shí)刻組織間隙胰島素值,計(jì)算第一時(shí)刻的第一應(yīng)注射值;
(6)基于步驟(3)-(5),以迭代的方法獲取每一時(shí)刻的應(yīng)注射值,直到所經(jīng)歷的時(shí)間達(dá)到第一胰島素注射方案的持續(xù)時(shí)長(zhǎng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一時(shí)刻與所述初始時(shí)刻的時(shí)間間隔等于所述第二時(shí)刻與所述第一時(shí)刻的時(shí)間間隔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,每?jī)纱巫⑸渲g的時(shí)間間隔是固定的。
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A61M 將介質(zhì)輸入人體內(nèi)或輸?shù)饺梭w上的器械
A61M5-00 以皮下注射、靜脈注射或肌內(nèi)注射的方式將介質(zhì)引入體內(nèi)的器械;其附件,例如充填或清潔器、靠手
A61M5-14 .輸注器械,例如重力法輸注;血液輸注;其所用的附件
A61M5-178 .注射器
A61M5-36 .帶有消除或避免將空氣注射、輸入人體的裝置的
A61M5-42 .帶有降低皮膚敏感度,使皮膚聳起便于刺入或給穿刺點(diǎn)定位的裝置
A61M5-44 .帶有用來(lái)冷凍或加熱設(shè)備或介質(zhì)的裝置
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