[發(fā)明專利]磁記錄介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580061456.1
• 申請(qǐng)日: 2015-11-16
• 公開（公告）號(hào): CN107004429B
• 公開（公告）日: 2019-10-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 立花淳一;遠(yuǎn)藤哲雄;尾崎知惠;照井輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號(hào): G11B5/667
• 分類號(hào): G11B5/667;G11B5/65;G11B5/725;G11B5/738;G11B5/78
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;謝雪閩

一種磁記錄介質(zhì)包括：具有柔性的長(zhǎng)形基底基板、軟磁性層和磁記錄層。所述基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比等于或者小于所述基底基板的短邊方向的矩形比。所述基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比等于或者小于30％。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)。具體來講，本發(fā)明涉及包括軟磁性底層的磁記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)

近年來，由于信息技術(shù)(IT)社會(huì)的發(fā)展、圖書館和檔案館等等的計(jì)算機(jī)化、以及商業(yè)文檔的長(zhǎng)期保存，對(duì)增大用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的磁帶介質(zhì)的容量的需求增加。為了滿足這種需求，提出了一種垂直磁記錄介質(zhì)，其中使具有高磁各向異性的CoCrPt系金屬材料具有在相對(duì)于非磁性基底的表面垂直的方向上的晶體取向性。

例如，專利文獻(xiàn)1公開了一種作為垂直磁記錄介質(zhì)的磁記錄介質(zhì)，其中在非磁性基底上依次至少形成非晶形層(amorphous layer)、籽晶層、基礎(chǔ)層、磁性層、磁性層和保護(hù)層。此外，專利文獻(xiàn)2公開了一種包括軟磁性底層的垂直磁記錄介質(zhì)。

專利文獻(xiàn)列表

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利未審公開號(hào)2005-196885

專利文獻(xiàn)2：日本專利未審公開號(hào)2002-279615

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的問題

本發(fā)明旨在提供一種具有出色的記錄和再現(xiàn)特性的磁記錄介質(zhì)。

問題的解決方案

為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種磁記錄介質(zhì)，包括

具有柔性的長(zhǎng)形基底基板、軟磁性層和磁記錄層，

其中所述基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比等于或者小于30％。

本發(fā)明的效果

如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以提供具有出色的記錄和再現(xiàn)特性的磁記錄介質(zhì)。

附圖說明

[圖1]圖1A是示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁記錄介質(zhì)的形狀的一個(gè)示例的平面圖。圖1B是示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的剖視圖。

[圖2]圖2是示出濺射裝置的結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的示意圖。

[圖3]圖3A是當(dāng)從箭頭C1的方向來看時(shí)圖2中示出的濺射裝置的一部分的放大平面圖。圖3B是當(dāng)從箭頭C2的方向來看時(shí)圖2中示出的濺射裝置的一部分的放大側(cè)視圖。

[圖4]圖4是示出磁場(chǎng)定向裝置的結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的透視圖。

[圖5]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施方式的磁記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的剖視圖。

[圖6]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施方式的磁記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)的一個(gè)示例的剖視圖。

[圖7]圖7A是示出實(shí)施例3至6中的磁帶的磁滯回線的圖。圖7B是示出比較例1至3中的磁帶的磁滯回線的圖。圖7C是示出實(shí)施例1、2、7、8和比較例4中的磁帶的磁滯回線的圖。

具體實(shí)施方式

在本發(fā)明中，基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比等于或者小于基底基板的短邊方向的矩形比。這里，矩形比是在磁記錄介質(zhì)的狀態(tài)下測(cè)量的矩形比。

在軟磁性層是單層結(jié)構(gòu)的情形中，優(yōu)選的是，基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比小于基底基板的短邊方向的矩形比。在這種情形下，基底基板的長(zhǎng)邊方向的矩形比等于或者小于30％，優(yōu)選的是等于或者小于20％，更優(yōu)選的是等于或者小于10％，尤其優(yōu)選的是等于或者小于5％。