[發明專利]感光性樹脂組合物、感光性元件、抗蝕圖案的形成方法和印刷配線板的制造方法有效
| 申請號: | 201580060667.3 | 申請日: | 2015-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN107077068B | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發明(設計)人: | 太田繪美子;村松有紀子;澤邊賢;岡出翔太;李相哲 | 申請(專利權)人: | 昭和電工材料株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/029 | 分類號: | G03F7/029;G03F7/004;G03F7/031;G03F7/033;H05K3/06;H05K3/18 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性 樹脂 組合 元件 圖案 形成 方法 印刷 線板 制造 | ||
1.一種感光性樹脂組合物,其含有:
(A)成分:粘合劑聚合物;
(B)成分:光聚合性化合物;
(C)成分:包含選自2,4,5-三芳基咪唑二聚體及其衍生物之中的至少一種的光聚合引發劑;和
(D)成分:氮氧自由基化合物,
其中,所述(D)成分包含具有2,2,6,6-四甲基哌啶-1-氧基結構的化合物。
2.根據權利要求1所述的感光性樹脂組合物,其中,所述2,4,5-三芳基咪唑二聚體及其衍生物包含由下述通式(1)表示的化合物:
式(1)中,Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自獨立地表示可被選自烷基、鏈烯基和烷氧基之中的至少一種取代基取代的芳基;X1和X2各自獨立地表示鹵素原子、烷基、鏈烯基或烷氧基;p和q各自獨立地表示1~5的整數,其中,在p為2以上的情況下,存在有多個的X1彼此可以相同,也可以不同;在q為2以上的情況下,存在有多個的X2彼此可以相同,也可以不同。
3.根據權利要求1或2所述的感光性樹脂組合物,其中,所述(A)成分具有來自(甲基)丙烯酸的結構單元和來自(甲基)丙烯酸烷基酯的結構單元。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的感光性樹脂組合物,其還含有(E)成分:酚系化合物。
5.根據權利要求1~4中任一項所述的感光性樹脂組合物,其還含有(F)成分:敏化劑,所述(F)成分包含吡唑啉化合物。
6.一種感光性元件,其具有:支撐體;和設置在所述支撐體上的感光性樹脂組合物層,該感光性樹脂組合物層是使用權利要求1~5中任一項所述的感光性樹脂組合物形成的。
7.一種抗蝕圖案的形成方法,其具有下述工序:
感光層形成工序,該工序中在基板上使用權利要求1~5中任一項所述的感光性樹脂組合物或者權利要求6所述的感光性元件形成感光性樹脂組合物層;
曝光工序,該工序中對所述感光性樹脂組合物層的至少一部分的區域照射活性光線,使所述區域光固化從而形成固化物區域;和
顯影工序,該工序中將所述感光性樹脂組合物層的所述固化物區域以外的區域從所述基板上除去,從而在所述基板上形成所述固化物區域即抗蝕圖案。
8.根據權利要求7所述的抗蝕圖案的形成方法,其中,所述活性光線的波長為340nm~430nm的范圍內。
9.一種印刷配線板的制造方法,其包含對采用權利要求7或8所述的抗蝕圖案的形成方法形成了抗蝕圖案的基板進行蝕刻處理或鍍覆處理的工序。
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