[發(fā)明專利]具有低閃光、DOI和透射霧度的防眩光基材

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580060100.6
• 申請日: 2015-09-04
• 公開（公告）號: CN107074629B
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: B·A·巴澤莫;金宇輝;侯軍
• 申請（專利權(quán)）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C03C3/087;C03C3/091;G02B5/02
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 徐鑫;項丹

揭示了防眩光基材和包含其的制品的實施方式。在一個或多個實施方式中，防眩光基材包括織構(gòu)化表面，其具有多個平均橫截面尺寸小于或等于約30微米的特征?；幕蛑破氛宫F(xiàn)出小于或等于10％的透射霧度、小于或等于約7％或者小于或等于6％的PPDr、以及小于或等于約80的DOI。還揭示了用于形成防眩光基材的方法，包括用具有低水溶解度的蝕刻劑來蝕刻基材表面以提供經(jīng)蝕刻的表面，以及去除一部分的經(jīng)蝕刻的表面。方法包括在對表面進(jìn)行蝕刻的同時，在表面上形成多個不可溶晶體(例如，K₂SiF₆和K₃AlF₆中的任意一種或多種)。蝕刻劑還可包含鉀鹽、有機(jī)溶劑和含氟酸。

相關(guān)申請交叉參考

本申請根據(jù)35 U.S.C.§119，要求2014年9月8日提交的美國臨時申請系列第62/047,254號的優(yōu)先權(quán)，本文以該申請為基礎(chǔ)并將其全文通過引用結(jié)合于此。

背景技術(shù)

本文涉及展現(xiàn)出防眩光性質(zhì)的基材，更具體地，涉及展現(xiàn)出低閃光、低圖像清晰度(DOI)和低透射霧度的基材。

消費(fèi)電子技術(shù)的發(fā)展必須改進(jìn)各種覆蓋基材性質(zhì)。一種此類改善領(lǐng)域是用于消費(fèi)者電子裝置，例如智能(移動)電話、平板、電子閱讀器、顯示器和TV的防眩光表面。

已知的防眩光表面通常具有織構(gòu)化表面，其是通過在基材的表面上形成晶體，以及對基材未被晶體覆蓋的部分進(jìn)行蝕刻形成的。在一些情況下，氫氟酸(HF)、氟化氫銨(NH₄HF₂)、丙二醇(PG)和無機(jī)酸(例如，硫酸H₂SO₄)被用于在玻璃基材上形成此類防眩光表面。

對于消費(fèi)者電子應(yīng)用，已知的防眩光表面會在低透射霧度水平(例如，小于或等于10％)下展現(xiàn)出閃光(或粒狀外觀)。當(dāng)在顯示系統(tǒng)中結(jié)合防眩光或光散射表面時，會發(fā)生顯示器“閃光”現(xiàn)象。閃光與非常細(xì)小的粒狀外觀相關(guān)，看上去會使得顆粒圖案偏移以及顯示器的可視角改變。當(dāng)通過防眩光表面觀察像素化顯示器例如LCD時，會觀察到這種類型的閃光。此類閃光的類型不同于投射或激光系統(tǒng)中觀察到和作為其特性的“閃光”或“斑點”，并且此類閃光起源于投射或激光系統(tǒng)中觀察到和作為其特性的“閃光”或“斑點”。

隨著顯示器展現(xiàn)出更高的清晰度和以更高的密度組件像素，減少閃光變得更為重要。因此，需要展現(xiàn)出低閃光的同時仍然展現(xiàn)出低DOI和低透射霧度的防眩光表面。

發(fā)明內(nèi)容

本文的第一個方面屬于形成防眩光表面的方法，其包括：用蝕刻劑蝕刻掉基材的一部分表面以提供經(jīng)蝕刻的表面，以及去除一部分經(jīng)蝕刻的表面以提供防眩光表面。所得到的具有防眩光表面的基材展現(xiàn)出小于或等于10％的透射霧度、小于或等于約6％的PPDr，以及防眩光表面展現(xiàn)出小于或等于約80的DOI。所得到的防眩光表面可以包括織構(gòu)化表面，其具有多個凹面特征，所述凹面特征具有從表面向外朝向的開口。開口的平均橫截面尺寸可以小于或等于約30微米。

在一個或多個實施方式中，方法包括：在用(可通過噴涂施加的)蝕刻劑蝕刻掉一部分的表面的同時，在表面上產(chǎn)生多個不可溶晶體。蝕刻劑可展現(xiàn)出小于或等于約50g/100g水的水溶解度。在一些情況下，不可溶晶體包括鉀，并且可以包括K₂SiF₆和K₃AlF₆中的任意一種或多種。在一些其他情況下，不可溶晶體展現(xiàn)出小于約10g/100g水的水溶解度。

在一個或多個實施方式中，去除一部分的經(jīng)過蝕刻的表面包括去除厚度最高至約100微米的表面(例如，約40-100微米)。可以通過將表面暴露于化學(xué)拋光溶液來去除厚度。在一些情況下，在去除一部分的經(jīng)過蝕刻的表面之前去除蝕刻劑。