[發明專利]具有低閃光、DOI和透射霧度的防眩光基材有效
| 申請號： | 201580060100.6 | 申請日： | 2015-09-04 |
| 公開（公告）號： | CN107074629B | 公開（公告）日： | 2021-07-06 |
| 發明（設計）人： | B·A·巴澤莫;金宇輝;侯軍 | 申請（專利權）人： | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C15/00 | 分類號： | C03C15/00;C03C3/087;C03C3/091;G02B5/02 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 徐鑫;項丹 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 閃光 doi 透射 眩光 基材 | ||
1.一種形成防眩光表面的方法，所述方法包括：
用蝕刻劑蝕刻掉基材的一部分表面以提供經蝕刻的表面，所述蝕刻劑展現出小于或等于50g/100g水的水溶解度；以及
去除一部分的經蝕刻的表面，以提供所述防眩光表面，
其中，具有所述防眩光表面的基材展現出小于或等于10％的透射霧度、小于或等于6％的PPDr，以及所述防眩光表面展現出小于或等于80的DOI，其中，PPDr是低像素功率偏差參照，以及其中，DOI是圖像清晰度。
2.如權利要求1所述的方法，所述方法還包括在對一部分表面進行蝕刻的同時，在所述表面上產生多個不可溶晶體。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶體包含鉀。
4.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶體展現出小于10g/100g水的水溶解度。
5.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述不可溶晶體包括K2SiF6和K3AlF6中的任意一種或多種。
6.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于，所述去除一部分的經蝕刻的表面包括去除厚度最高至100微米的表面。
7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述厚度為40-100微米。
8.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述去除一部分的經蝕刻的表面包括將表面暴露于化學拋光溶液。
9.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于，在所述去除一部分的經蝕刻的表面之前，去除所述蝕刻劑。
10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，所述蝕刻劑包含鉀鹽。
11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述鉀鹽存在的量為1-20重量％。
12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，所述鉀鹽存在的量為5-15重量％。
13.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述鉀鹽包括以下任意一種或多種：氯化鉀(KCl)、硝酸鉀(KNO3)、硫酸鉀(K2SO4)和乙酸鉀。
14.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于，所述蝕刻劑還包含有機溶劑和含氟酸。
15.如權利要求14所述的方法，其特征在于，所述有機溶劑存在的量為0-40重量％。
16.如權利要求15所述的方法，其特征在于，所述有機溶劑包括與水混溶有機溶劑。
17.如權利要求14所述的方法，其特征在于，所述含氟酸存在的量為0.5-6重量％。
18.如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述含氟酸包括以下任意一種或多種：氫氟酸(HF)和氟化氫銨(NH4HF2)。
19.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于，所述蝕刻劑基本不含銨鹽。
20.如權利要求1-5中任一項所述的方法，其特征在于，所述蝕刻劑還包含以下任意一種或多種：氟化銨、不可溶顆粒和表面活性劑。
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