[發(fā)明專利]組織再生基材和組織再生基材的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580059979.2 | 申請日： | 2015-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN107073166A | 公開（公告）日： | 2017-08-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 有村英俊;井出啟太 | 申請（專利權）人： | 郡是株式會社 |
| 主分類號： | A61L27/00 | 分類號： | A61L27/00 |
| 代理公司： | 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司11322 | 代理人： | 龍淳 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 組織 再生 基材 制造 方法 | ||
1.一種組織再生基材，其特征在于：
其由生物體吸收性材料所構(gòu)成的無紡布構(gòu)成，
該組織再生基材具有將由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層和由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層復合一體化而成的疊層結(jié)構(gòu)。
2.如權利要求1所述的組織再生基材，其特征在于：
具有將由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層、由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層和由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層的三層依照此順序依次復合一體化而成的疊層結(jié)構(gòu)。
3.如權利要求1或2所述的組織再生基材，其特征在于：
平均孔徑為20～50μm的無紡布的平均纖維直徑為10～50μm，且平均孔徑為5～20μm的無紡布的平均纖維直徑為0.7～7μm。
4.如權利要求1、2或3所述的組織再生基材，其特征在于：
由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層的厚度為300μm～2.0mm。
5.如權利要求1、2、3或4所述的組織再生基材，其特征在于：
由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層的厚度為10～150μm。
6.如權利要求1、2、3、4或5所述的組織再生基材，其特征在于：
生物體吸收性材料為聚乙醇酸交酯。
7.如權利要求6所述的組織再生基材，其特征在于：
聚乙醇酸交酯的重均分子量為30000～400000。
8.一種組織再生基材的制造方法，其用于制造權利要求1、2、3、4、5、6或7所述的組織再生基材，該方法的特征在于，包括：
制備由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層的工序；
在所述由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層上，通過熔噴法噴出由生物體吸收性材料構(gòu)成的絲，形成由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層，得到疊層體的工序；和
對所述疊層體進行針刺，使所述由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層與所述由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層復合一體化的工序。
9.一種組織再生基材的制造方法，其用于制造權利要求1、2、3、4、5、6或7所述的組織再生基材，該方法的特征在于，包括：
制備由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層的工序；
制備由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層的工序；
將所述由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層與所述由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層疊層而得到疊層體的工序；和
對所述疊層體進行針刺，使所述由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層與所述由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層復合一體化的工序。
10.如權利要求8或9所述的組織再生基材的制造方法，其特征在于：
在制備由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層工序后，具有對由平均孔徑為20～50μm的無紡布構(gòu)成的層的要與由平均孔徑為5～20μm的無紡布構(gòu)成的層進行疊層側(cè)的表面，實施起毛處理的工序。
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