[發明專利]利用多級光照射的透明導電性膜的制造方法

有效

• 申請號: 201580054937.X
• 申請日: 2015-08-11
• 公開（公告）號: CN107112093B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 金學成;鄭完皓;金東鉉
• 申請（專利權）人: 天津奈博科技有限公司
• 主分類號: H01B13/00
• 分類號: H01B13/00;H01B5/14
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 薛琦;沈佳麗

本發明提供一種透明導電性膜的制造方法，包括以下步驟：a)在基板上涂覆包含具有光學活性的導電性納米線及有機粘結劑的導電性納米線分散液；b)在涂覆后的導電性納米線上照射包括第一紫外光(UV)的第一光；及c)在導電性納米線上照射包括脈沖型第一白光的第二光。

技術領域

本發明涉及一種透明導電性膜的制造方法，特別涉及一種具有優異電導率和高透明度，即使在大面積下也能確保均勻的電性能，并且在反復的物理形變下仍可長期穩定工作的透明導電性膜的制造方法。

背景技術

透明電極在諸如薄膜晶體管(TFT)元件、太陽能電池、觸摸屏等多種產業領域中具有廣泛的應用。

目前，一般將氧化銦錫(ITO)作為透明電極材料，但是存在銦的枯竭和工藝復雜性等問題。而且，ITO的沉積主要通過薄膜沉積工藝進行，導致工藝成本高，并且具有結晶結構的致密薄膜的形成會產生裂紋等問題。因此，近來ITO并不適合用于采用聚合物系列柔性基板的透明電極備受關注。最近，用銀納米線作為ITO透明材料的替換材料備受關注。

另外，柔性透明電極的制造方法主要包括使用金屬墨水來運用納米網格的方法及使用銀納米線為主的金屬納米線的方法。其中，通過將金屬納米線安置于柔性基板上來制造透明電極的核心技術是金屬納米線的粘合方法。

例如，現有技術中，為了粘合金屬納米線，通常使用在惰性氣體中施加高溫(200℃～350℃)的方法、激光照射法或化學法，但是這些方法具有不僅耗時多、熔點低還無法在引起化學反應的聚合物基板上使用的缺點。另外，韓國公開專利文獻第2012-0092294號提供了利用光燒結粘合銀納米線來制造透明電極的技術，但是所得透明電極的薄層電阻均勻度低，因此在商用化應用方面存在限制。

而且，在基板上涂覆金屬納米線成膜時，均勻涂覆是非常重要的。一般，包括銀納米線的金屬納米線自身具有較強的凝聚力，因此在水等溶劑中分散金屬納米線時無法獲得均勻的分散性，尤其是將其涂覆在基板上進行干燥，會出現溶劑先揮發導致金屬納米線之間聚集在一起的現象，最終難以在基板上形成金屬納米線均勻形成的表面涂層，也無法提供在整個表面上具有均勻薄層電阻的透明電極薄膜。

因此，為了利用聚合物材料作為柔性透明電極，且提供整個表面上具有均勻薄層電阻的透明電極，迫切需要開發一種不會通過化學反應影響其它組分，在室溫大氣條件下能夠在極短時間內完成粘合，且具有改善的薄層電阻均勻度的用于透明電極的薄膜。

發明內容

技術問題

本發明的目的是提供一種具有優異電導率和高透明度，即使在大面積下也能確保均勻的電性能，并且在反復的物理形變下仍可長期穩定工作的透明導電性膜的制造方法。

技術方案

本發明提供了一種透明導電性膜的制造方法，包括以下步驟：a)在基板上涂覆包含具有光學活性的導電性納米線及有機粘結劑的導電性納米線分散液；b)在涂覆后的導電性納米線上照射包括第一紫外光(UV)的第一光；及c)在導電性納米線上照射包括脈沖型第一白光的第二光。

本發明一實施例提供的制造方法中，所述光學活性為表面等離子活性或光催化活性。

本發明一實施例提供的制造方法中，所述有機粘結劑為分子量(Mw)在5×10⁵以下的天然或合成聚合物。

本發明一實施例提供的制造方法中，在步驟a)之后，至少在步驟b)之前，所述制造方法還包括以下步驟：在涂覆后的導電性納米線上照射包括紅外光(IR)的第三光。

本發明一實施例提供的制造方法中，所述第二光還包括第二紫外光。

本發明一實施例提供的制造方法中，所述第一光還包括脈沖型第二白光。