[發明專利]照射系統

有效

• 申請號: 201580051928.5
• 申請日: 2015-08-26
• 公開（公告）號: CN106716256B
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: H·P·高德福萊德;許貝特斯·P·L·H·范巴斯爾;威廉默斯·P·E·M·奧特羅特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

一種用于光刻設備的照射系統(IL)包括：透鏡陣列(2a?h)，被配置成接收輻射束(B)且將所述輻射束聚焦成多個子束(4a?h)；反射元件陣列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；分束裝置(10)，被配置成將所述照射束分裂成第一部分(12)和第二部分(14)，其中所述第一部分被引導以入射于光刻圖案形成裝置(MA)上：聚焦單元(22)，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是彼此并不重疊的所述子束的圖像；及檢測器元件陣列(24)，其被配置成測量入射于所述檢測平面上的輻射的強度。

相關申請的交叉引用

本申請主張2014年9月25日提交的歐洲申請14186403.3的優先權，并且它們通過援引而全文合并到本發明中。

技術領域

本發明涉及一種用于光刻設備的照射系統。

背景技術

光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底的目標部分上的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成與所述IC的單層對應的電路圖案，且可以將所述圖案成像到具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層的襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，單個襯底將包括被連續地曝光的相鄰目標部分的網絡。已知的光刻設備包括：所謂的步進機，在所述步進機中，通過將整個圖案一次性曝光到所述目標部分上來輻射每個目標部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與所述方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每個目標部分。

光刻設備包括用于提供用來照射一種圖案形成裝置的輻射束的照射系統。例如，照射系統可從輻射源接收輻射束并且可調節所述輻射束以用于圖案形成裝置的照射。

需要提供一種消除或減輕無論是在本發明中或是在別處所辨識的現有技術的一個或更多個問題的照射系統。

發明內容

根據第一方面，提供一種用于光刻設備的照射系統，包括：透鏡陣列，被配置成接收輻射束且將所述輻射束聚焦成多個子束；反射元件陣列，被配置成接收所述子束且反射所述子束以便形成照射束；分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分和第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列上游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。

根據第二方面，提供一種用于光刻設備的照射系統，包括：反射元件陣列，被配置成接收輻射束且反射所述輻射束的多個子束以便形成照射束；分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分及第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列下游的平面中的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。

需要在所述光刻圖案形成裝置的照射期間提供具有所需空間強度分布的照射束。所述第一方面及所述第二方面二者允許從由所述檢測器元件陣列進行的測量來確定所述子束中的每個子束的所述強度。因為所述子束彼此并不重疊的平面被成像至所述檢測平面上，所以可獨立地確定所述子束中的每個子束的所述強度。所述子束的所確定的強度可有利地用來確定導致具有所需空間強度分布的照射束的所述反射元件的所需定向。例如，可響應于由所述檢測器元件陣列進行的所述測量來控制所述反射元件的所述定向，以便提供具有所需空間強度分布的照射束。