[發明專利]照射系統

有效

• 申請號: 201580051928.5
• 申請日: 2015-08-26
• 公開（公告）號: CN106716256B
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: H·P·高德福萊德;許貝特斯·P·L·H·范巴斯爾;威廉默斯·P·E·M·奧特羅特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種用于光刻設備的照射系統，所述照射系統包括：

反射元件陣列，被配置成接收入射輻射且反射所述入射輻射以便形成包括多個子束的照射束；

分束裝置，被配置成將所述照射束分裂成第一部分及第二部分，其中所述第一部分被引導以入射到光刻圖案形成裝置上；

聚焦單元，被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至檢測平面上使得在所述檢測平面處形成圖像，且其中所述圖像是所述照射束的多個子束的圖像或入射輻射的多個子束的圖像，且其中所述子束在所述圖像中彼此并不重疊；和

檢測器元件陣列，被配置成測量入射到所述檢測平面上的輻射的強度。

2.根據權利要求1所述的照射系統，還包括透鏡陣列，所述透鏡陣列位于所述反射元件陣列的上游且被配置成接收所述入射輻射，將所述入射輻射聚焦成所述入射輻射的所述多個子束且將所述入射輻射的所述多個子束引導至所述反射元件陣列上。

3.根據權利要求1所述的照射系統，其中所述檢測器元件陣列被布置成使得多個檢測器元件接收對應于每個子束的輻射。

4.根據權利要求3所述的照射系統，還包括控制器，所述控制器被配置成確定每個子束的空間強度分布且使用所述空間強度分布來確定所述反射元件陣列的所述反射元件中的每個反射元件的定向。

5.根據權利要求1所述的照射系統，其中所述聚焦單元被配置成將所述照射束的所述第二部分聚焦至所述檢測平面上使得每個檢測器元件接收與所述多個子束中的單一子束對應的輻射。

6.根據權利要求1所述的照射系統，其還包括控制器，所述控制器被配置成確定所述多個子束中的每個子束的強度。

7.根據權利要求6所述的照射系統，其中所述控制器在照射時段期間能夠操作以響應于所述多個子束的經確定的強度而控制反射元件的定向，以便形成具有所需空間強度分布的照射束。

8.根據權利要求7所述的照射系統，其中所述控制器進一步能夠操作以在除了所述照射時段期間以外的時間控制所述反射元件的定向，以便定向所述反射元件使得與在所述照射時段期間的平面的范圍相比較時，當成像至所述檢測平面上時形成所述子束并不重疊的所述子束的圖像的平面的范圍被擴展。

9.根據權利要求1所述的照射系統，其中所述聚焦單元能夠操作以調整成像至所述檢測平面上的所述平面。

10.根據前述權利要求中任一項所述的照射系統，還包括控制器，所述控制器被配置成從由所述檢測器元件陣列進行的測量確定與所述反射元件陣列的反射元件相關的故障。

11.根據權利要求1所述的照射系統，其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列上游的平面中的圖像。

12.根據權利要求1所述的照射系統，其中所述圖像是所述多個子束在位于所述反射元件陣列下游的平面中的圖像。

13.一種光刻設備，包括：

根據權利要求1所述的照射系統；

支撐結構，被配置成用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在所述照射束的所述第一部分的橫截面中將圖案賦予所述照射束的所述第一部分，由此形成圖案化的輻射束；

襯底臺，被配置成用于保持襯底；及

投影系統，被配置成用于將所述圖案化的輻射束投影至所述襯底的目標部分上。