[發明專利]容器收納裝置有效
| 申請號: | 201580051716.7 | 申請日: | 2015-09-17 |
| 公開(公告)號: | CN106716598B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 園田主稅;宮原強;大川勝宏;宇都宮由典;赤田光;長谷部和久 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027;B05C11/10;G03F7/26 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳;王磊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 容器 收納 裝置 | ||
收納多個存積有半導體制造用的處理液的容器的容器收納裝置包括:載置容器的載置臺;根據載置在載置臺的容器內的處理液的液量進行升降的支承板;和根據支承板的升降相對于容器的相對位置發生變化的阻擋件。阻擋件在容器內的液量低于規定值的情況下,上升至阻礙容器從載置臺移動的位置。
技術領域
(關聯申請的相互參照)
本申請基于2014年9月24日在日本申請的特愿2014-193581號和2015年8月10日在日本申請的特愿2015-158322號,主張優先權,將其內容援引在此。
本發明涉及收納例如存積有抗蝕劑液、顯影液等半導體制造用的處理液的容器的容器收納裝置。
背景技術
例如在半導體器件的制造工序中的光刻工序中,為了在晶片上涂敷抗蝕劑液形成抗蝕劑膜,或供給顯影液對抗蝕劑膜進行顯影處理,而進行各種液處理。這些一系列的液處理通過搭載有在各種液處理裝置、裝置間搬運晶片的搬運機構等的基板處理系統來進行。
在這樣的基板處理系統中,各種處理液從存積該處理液的容器供給到各種液處理裝置,但處理液中會使用例如抗蝕劑液、顯影液那樣多種處理液,另外,抗蝕劑液、顯影液其自身也會使用各種種類,因此,該基板處理系統中要配置多種處理液的容器。
因此,例如為了防止在更換使用空的容器時錯誤地與不同種類的容器更換的問題,例如專利文獻1中提出了管理各容器的方法。
在專利文獻1的方法中,預先在例如處理液的容器表面粘貼識別用的條形碼,在容器更換時讀取該條形碼,與預先注冊的數據進行比較,判定更換的容器的是否適合。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2001-217217號公報
發明內容
發明要解決的技術問題
但是,在上述的基板處理系統中,為了有效地收納多個容器,例如如圖29所示,使用具有在上下方向上設置為多層的擱板200的收納架201。而且,在各層擱板200配置多個容器210。
因此,在容器210變空時,為了從多個容器210中確定需要更換的容器210需要時間。特別是,通常容器210帶有顏色,無法從外部確認處理液的剩余量,另外,容器210的大小、形狀與處理液的種類無關而大致相同,因此,難以通過從外部的視覺辨認來確定變空的容器210。
因此,在容器210的更換作業時,有可能錯誤地更換與對象不同的容器210。而且,更換錯誤的容器210而處理液混合接觸時,需要進行處理液的系統的清洗等,因此,基板處理系統的恢復會耗費大量的時間和費用。
本發明是鑒于上述情況而完成的,其目的在于在短時間內確定成為更換對象的處理液的容器,并且防止更換錯誤的容器。
用于解決技術問題的技術方案
為了實現上述的目的,本發明提供一種收納多個存積有半導體制造用的處理液的容器的容器收納裝置,其包括:載置上述容器的多個載置臺;和移動部件,其配置在阻礙為了更換上述載置臺上的上述容器而使該容器從上述載置臺移動的位置,且在規定的條件成立時相對于上述載置臺上的容器的相對位置發生變化,從阻礙用于更換上述容器的移動的位置退避。
根據本發明,在阻礙為了更換容器而使該容器從載置臺移動的位置配置移動部件,該移動部件在規定條件成立時從阻礙用于更換容器的移動的位置退避。其中,規定的條件例如是容器內的處理液的液量低于規定的值,需要進行該容器的更換的情況等。因此,例如在更換處理液的液量低于規定的值的容器時,能夠防止錯誤更換與更換對象不同的容器、即移動部件沒有從阻礙容器的移動的位置退避的載置臺所對應的容器。另外,移動機構進行移動,因此,通過目測確認該移動機構的位置,能夠容易確定成為更換對象的容器。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





