[發明專利]柔性基底及其制造方法

在審

• 申請號: 201580051323.6
• 申請日: 2015-09-07
• 公開（公告）號: CN106716663A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: 鄭震旭;金玟奭;尹洪
• 申請（專利權）人: 康寧精密素材株式會社
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/52;H01L51/56;B82Y30/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司11286
• 代理人: 劉燦強,尹淑梅

技術領域

本公開涉及一種柔性基底及其制造方法。更具體地，本公開涉及一種具有高水平柔性、透明度和電導率的柔性基底以改善設置有所述柔性基底的柔性顯示裝置的質量和制造所述柔性基底的方法。

背景技術

顯示裝置市場經歷了從陰極射線管(CRT)顯示裝置到平板顯示器(FPD)的產品趨勢的迅速變化。FPD的代表性示例有液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示面板(PDP)、有機發光二極管(OLED)顯示裝置等，這些平板顯示器與CRT顯示裝置相比均更輕、更薄、且更易以更大尺寸制造。

最近，顯示技術的發展正在從現有的平板顯示器轉到需要更高機械柔性的柔性顯示器。期望未來的顯示裝置演變成可彎曲、可卷繞、可折疊和可伸縮的結構。為實現柔性顯示器，顯示器的全部組件需要是柔性的。具體地說，提高透明電極的機械柔性最為重要。

透明電極材料通常是具有80％或更高的可見光透射率且小于1000Ω/sq的片電阻的薄膜。目前最常用的典型透明電極材料是包括90％In₂O₃和10％SnO₂的氧化銦錫(ITO)。

ITO由于其諸如優異的電導率、優異的透光率和易于加工的特性而適用于平板顯示器(FPD)。然而，當在柔性顯示器中使用ITO時，ITO的差的機械柔性會導致問題。例如，在曲率(或彎曲)半徑為10nm或以下的情況下，會形成裂紋，電導率會降低。

在現有技術中，用諸如金屬網格和Ag納米線的替代透明電極材料代替ITO以改善透明電極的柔性。然而，由于復雜的工藝及與現有顯示工藝的兼容性，替代透明電極材料的應用是不容易的。因此，需要使用通過改善其機械柔性的ITO透明電極的解決方案。

[現有技術文獻]

第10-2011-0135612號韓國專利申請公布(2011年12月19日)

發明內容

技術問題

因此，本公開是考慮到現有技術中出現的上述問題而做出的，本公開提出一種具有高水平柔性、透明度和電導率的柔性基底以改善設置有所述柔性基底的柔性顯示裝置的質量和制造所述柔性基底的方法。

技術方案

根據本公開的一方面，柔性基底可以包括：柔性基體；氧化銦錫薄膜，設置在柔性基體上；多個納米顆粒，不連續地分布在氧化銦錫薄膜中。

氧化銦錫薄膜可以包含在其中的Al摻雜ZnO和In摻雜ZnO。

多個納米顆粒可以由從SiO₂、TiO₂和Al₂O₃構成的組中選擇的一種金屬氧化物來形成。

納米顆粒的表面可以從氧化銦錫薄膜的表面暴露以與氧化銦錫薄膜的表面齊平。

柔性基體可以由從薄玻璃片、金屬薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚酰亞胺構成的組中選擇的一種來形成。

柔性基體可被用作有機發光二極管裝置的覆蓋基底，氧化銦錫薄膜可被用作充當有機發光二極管裝置的陽極的透明電極。

柔性基底還可以包括阻擋層，設置在有機發光二極管裝置的有機發光層與氧化銦錫薄膜之間。

根據本發明的另一方面，提供了一種制造柔性基底的方法。所述方法可以包括：在柔性基體上不連續地形成多個納米顆粒；在其上設置有多個納米顆粒的柔性基體上沉積氧化銦錫薄膜；對在柔性基體上沉積的氧化銦錫薄膜的表面平坦化。

形成多個納米顆粒的步驟可以包括：通過旋涂在柔性基體上設置多個納米顆粒；在旋涂之后利用熱或等離子體對多個納米顆粒后處理。

在柔性基體上沉積氧化銦錫的步驟可以包括：通過濺射或旋涂在柔性基體上沉積氧化銦錫薄膜；利用熱或等離子體對沉積的氧化銦錫薄膜后處理。

可以對在柔性基體上沉積的氧化銦錫薄膜的表面平坦化使得多個納米顆粒的表面暴露于外部。

多個納米顆粒可以由從SiO₂、TiO₂和Al₂O₃構成的組中選擇的一種金屬氧化物來形成。

有益效果

根據本公開，具有優異透明度和柔性的多個納米顆粒不連續地設置在在基體上設置的透明薄膜內，從而使柔性基底具有高水平的柔性、透明度和電導率。