[發明專利]無基板柔性顯示器及其制造方法

在審

• 申請號: 201580051235.6
• 申請日: 2015-08-13
• 公開（公告）號: CN107111984A
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發明（設計）人: 余曉軍;魏鵬;袁澤;劉自鴻
• 申請（專利權）人: 柔宇科技有限公司
• 主分類號: G09G3/30
• 分類號: G09G3/30;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司44202
• 代理人: 郝傳鑫,熊永強

1.一種無基板顯示裝置，包括：

阻擋堆疊件，包括多層無機阻擋膜和多層聚合物膜，其中所述無機阻擋膜和所述聚合物膜交替設置；

薄膜晶體管(TFT)器件層，設置在所述阻擋堆疊件上；

顯示介質層，設置在所述薄膜晶體管器件層上；以及

封裝層，設置在所述顯示介質層上，

其中所述無機阻擋膜中的一個設置在所述阻擋堆疊件的與所述封裝層相對的最外層，并且所述顯示裝置是無基板的。

2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述無機阻擋膜包括金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、旋涂玻璃、旋涂電介質、硅氧化物、硅氮化物或硅碳化物中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述聚合物膜包括聚酰亞胺、聚降冰片烯、聚酰胺、聚醚砜、聚醚酰亞胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酯、丙烯酸聚合物或尼龍中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述無機阻擋膜的厚度在10nm至10μm的范圍。

5.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述聚合物膜的厚度在100nm至100μm的范圍。

6.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述顯示介質層包括有機發光二極管器件層、液晶層或電泳墨水層中的一個。

7.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于：所述薄膜晶體管器件層設置在所述無機阻擋膜之一上。

8.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，還包括設置在所述阻擋堆疊件的與所述封裝層相對的最外層的無機阻擋膜上的犧牲層或粘附控制層。

9.一種制造無基板顯示裝置的方法，所述方法包括：

在載體上形成阻擋堆疊件，所述阻擋堆疊件包括多層無機阻擋膜和多層聚合物膜，其中所述無機阻擋膜和所述聚合物膜交替設置，并且所述阻擋堆疊件的與所述載體相鄰的膜是所述無機阻擋膜中的一個；

在所述阻擋堆疊件上形成薄膜晶體管(TFT)器件層；

在所述薄膜晶體管器件層上形成顯示介質層；

在所述顯示介質層上形成封裝層；以及

從所述阻擋堆疊件移除所述載體。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述載體和所述阻擋堆疊件之間形成犧牲層，

其中，所述從所述阻擋堆疊件移除所述載體包括移除所述犧牲層的至少一部分。

11.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，還包括：

在所述載體和所述阻擋堆疊件之間形成粘附控制層，

其中所述粘附控制層包括有機硅烷化合物層、六甲基二硅氮烷(HMDS)層或聚合物層、或其組合。

12.根據權利要求9所述的方法，其特征在于：所述聚合物膜在300℃-450℃的溫度形成。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于：所述薄膜晶體管器件層在高于300℃的溫度形成。

14.一種無基板顯示裝置，包括：

阻擋堆疊件，包括多層無機阻擋膜和多層聚合物膜，所述無機阻擋膜和所述聚合物膜交替設置，所述聚合物膜的一第一聚合物膜設置在所述阻擋堆疊件的最下部；

薄膜晶體管(TFT)器件層，設置在所述阻擋堆疊件上；

顯示介質層，設置在所述薄膜晶體管器件層上；以及

封裝層，設置在所述顯示介質層上，其中所述顯示裝置是無基板的。

15.根據權利要求14所述的顯示裝置，其特征在于：所述無機阻擋膜包括金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、旋涂玻璃、旋涂電介質、硅氧化物、硅氮化物或硅碳化物中的一種或多種。

16.根據權利要求14所述的顯示裝置，其特征在于：所述聚合物膜包括聚酰亞胺、聚降冰片烯、聚酰胺、聚醚砜、聚醚酰亞胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酯或尼龍中的一種或多種。

17.根據權利要求14所述的顯示裝置，其特征在于，還包括設置在所述第一聚合物膜的一側上的與所述無機阻擋膜相對的犧牲層或粘合控制層。