[發(fā)明專利]無基板柔性顯示器及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580051235.6 | 申請日: | 2015-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN107111984A | 公開(公告)日: | 2017-08-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 余曉軍;魏鵬;袁澤;劉自鴻 | 申請(專利權(quán))人: | 柔宇科技有限公司 |
| 主分類號: | G09G3/30 | 分類號: | G09G3/30;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司44202 | 代理人: | 郝傳鑫,熊永強 |
| 地址: | 美國加利福尼亞州,*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 無基板 柔性 顯示器 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
示例實施方式涉及一種顯示裝置,并且特別涉及一種沒有基板的柔性顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
柔性顯示器已被考慮用于顯示產(chǎn)業(yè)作為下一代信息顯示技術(shù)。特別地,柔性有源矩陣有機發(fā)光二極管(AMOLED)顯示器已經(jīng)在諸如智能電話、智能家庭系統(tǒng)、可穿戴電子設(shè)備等的應(yīng)用中引起了廣泛的興趣。
如果水分滲透到器件層中,則用于有源矩陣中的薄膜晶體管(TFT)器件可能劣化。例如,水分可能導(dǎo)致TFT器件的特性偏離設(shè)計范圍,導(dǎo)致器件發(fā)生故障。此外,有機發(fā)光二極管(OLED)器件對水分和氧極其敏感。例如,當(dāng)OLED材料暴露于水分時,OLED器件的發(fā)射可能退化。OLED器件的高反應(yīng)性和低功函數(shù)陰極很容易被水分和氧氣腐蝕。因此,AMOLED顯示器通常需要兩個基板來封裝TFT和OLED器件,以確保這些器件的穩(wěn)定性能。
由于其用于彎曲的柔韌性,塑料基板被選擇作為柔性顯示面板的基板。此外,塑料基材重量輕且不易碎,并且適合于卷對卷加工。證實用塑料基材制成的顯示面板對于機械沖擊是耐用的,并且允許可卷曲和可折疊的應(yīng)用。在一些情況下,彎曲半徑需要小于1mm。
然而,已知塑料基板對于防止水分進入器件層比玻璃基板的效果差。為了克服這些缺點,已經(jīng)實施了幾個提議。例如,參考圖1,在塑料基板102上提供堆疊層104以減少水分和氧從其穿透。堆疊層104包括多對堆疊膜。一對堆疊膜包括聚合物膜106和無機膜108。例如,在圖1中,在塑料基板102上設(shè)置三對聚合物膜106和無機膜108。
通常,通過濺射、等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)、原子層沉積(ALD)等在基板102上形成無機膜108。可以通過將單體蒸發(fā)到基板102上,然后由熱或光將其固化來形成聚合物膜106。然而,由于塑料基板102的低耐熱性,形成聚合物的加工溫度通常被限制在150℃之下。此外,形成通常被設(shè)置在堆疊層104上的TFT器件層的加工溫度受到堆疊層104的加工溫度的限制。也就是說,塑料基板上的TFT器件層通常在較低的溫度下形成,例如,低于150℃的溫度。在低溫下形成的TFT器件的器件性能和器件可靠性不足,并且它可能不適合于控制液晶顯示器的液晶或OLED顯示器的OLED器件。
為了解決上述問題,提出了在塑料基板的頂部上的堆疊層的新結(jié)構(gòu)。參考圖2,在塑料基板202的頂部提供堆疊層204,以減少水分和氧氣從其穿過。堆疊層204可以包括多對堆疊膜。一對堆疊膜包括第一無機膜206和第二無機膜208。例如,在圖2中,在塑料基板202上設(shè)置三對第一無機膜206和第二無機膜208。無機膜206、208可以是SiO2和SiNx。
盡管這些無機膜能夠承受更高的溫度以形成TFT器件層,但是它們也存在缺點。最重要的是,顆粒和針孔在器件制造期間是常見的,并且單個無機層不能完全覆蓋顆粒或針孔。因此,水分或氧氣可以沿著針孔或顆粒的邊界滲透。通常,需要非常厚的無機阻擋層。特別地,其可能需要若干對堆疊的無機膜以獲得更好的膜覆蓋并降低水分和氧滲透。隨著膜堆積和厚度增加,內(nèi)部應(yīng)力增加,這可能導(dǎo)致塑料基板彎曲并且可能損害無機膜的阻擋效果。此外,隨著更多堆疊的無機膜,表面粗糙度變得更高。
因此,需要改進柔性顯示器的結(jié)構(gòu)以增加柔性顯示器的可靠性。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本公開,公開了一種無基板顯示裝置。無基板顯示裝置包括阻擋堆疊件。阻擋堆疊件包括多層無機阻擋膜和多層聚合物膜。無機阻擋膜和聚合物膜交替設(shè)置。無基板顯示裝置還包括設(shè)置在阻擋堆疊件上的薄膜晶體管(TFT)器件層;設(shè)置在所述TFT器件層上的顯示介質(zhì)層;以及設(shè)置在所述顯示介質(zhì)層上的封裝層。無機阻擋膜中的一個設(shè)置在阻擋堆疊件的與封裝層相對的最外層。
根據(jù)本公開,公開了一種制造無基板顯示裝置的方法。該方法包括在載體上形成阻擋堆疊件。阻擋堆疊件包括多層無機阻擋膜和多層聚合物膜。無機阻擋膜和聚合物膜交替設(shè)置。阻擋堆疊件的與載體相鄰的膜是無機阻擋膜之一。該方法還包括在阻擋堆疊件上形成薄膜晶體管(TFT)器件層;在所述TFT器件層上形成顯示介質(zhì)層;在所述顯示介質(zhì)層上形成封裝層;以及從所述阻擋堆疊件移除所述載體。
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