[發明專利]投射曝光系統的照明光學單元

有效

• 申請號: 201580050425.6
• 申請日: 2015-10-02
• 公開（公告）號: CN106716254B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: M.帕特拉;S.比林;M.德岡瑟;R.米勒
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

一種投射曝光系統(1)的照明光學單元(17i)，包含多個輻射反射組件，其中所有輻射反射組件布置為使得含照明輻射(5)的光束(10_i)會在這些組件上以相同方式偏轉。

相關申請的交叉引用

本申請要求德國專利申請DE 10 2014 221 175.1的優先權，通過引用將其內容并入于此。

技術領域

本發明涉及一種投射曝光系統的照明光學單元，特別是涉及其中自由電子激光器(FEL)充當輻射源的投射曝光系統的照明光學單元。本發明進一步涉及包含至少一個這種照明光學單元的照明系統、包含照明光學單元和投射光學單元的光學系統，以及包含至少一個這種照明光學單元的投射曝光系統。最后本發明涉及制造微結構或納米結構組件的方法，以及根據此方法制造的組件。

背景技術

在投射曝光設備中，輻射源發出的照明輻射常規上會在前往物場中要照明的掩模母版的旅程中多次偏轉。這會導致非所要的輻射損失和/或非所要的偏振效應。

發明內容

本發明的目的為改進用于將照明輻射引導至物場的照明光學單元。

此目的由包含多個輻射反射組件的照明光學單元實現，其中所有輻射反射組件布置為使得具有照明輻射的光束在這些組件處以相同方式偏轉。

照明光學單元特別用來將照明輻射從中間焦點傳輸至物場。照明光學單元適合用于具有單一掃描儀的投射曝光設備。照明光學單元可以特別有利的方式用于具有多個掃描儀的投射曝光系統，特別是其中將來自共享輻射源，特別是自由電子激光源(FEL)的照明輻射供應給多個掃描儀的投射曝光系統。特別地，照明輻射可為EUV輻射，即波長范圍為從2nm至30nm，特別是范圍為從2nm至15nm、特別是具有波長13.5nm的輻射。

根據本發明確定的是，通過以有目標方式選擇的(特別是優化的)輻射反射組件的布置，特別是考慮到照明輻射所導致的偏轉角度，可改善照明光學單元的光學特性。特別是，可減少輻射耗損和/或將偏振程度維持在特定范圍內，特別是低于20％。

根據本發明的一個方面，輻射反射組件中的至少二個，特別是精確的二個，實施為分面元件，特別是分面鏡。特別地，其可為場分面鏡和光瞳分面鏡。

輻射反射組件更包含至少一個其它反射鏡。特別地，該至少一個其它反射鏡布置在光束路徑中第二分面鏡下游。替代地，該至少一個其它反射鏡布置在光束路徑中第一分面鏡上游。

根據本發明的另一方面，在光束路徑方向上，輻射反射組件包含第一分面鏡、第二分面鏡以及精確的一個其它反射鏡。后者布置在第二分面鏡與物場之間的光束路徑中或第一分面鏡上游。

特別地，照明光學單元實施為使得精確的一個反射鏡布置在第二分面鏡與物場之間的光束路徑中。

特別地，照明光學單元包含精確的三個反射鏡元件。在此，兩個分面鏡包含多個輻射反射單獨分面。

特別地，布置在光束路徑中第二分面鏡下游或第一分面鏡上游的其它反射鏡并未分面，即具有單體實施例。

特別地，該其它反射鏡實施為成像反射鏡，即具有成像效果的反射鏡。特別地，該其它反射鏡具有非平面反射面。

根據本發明的另一方面，照明光學單元的光束路徑中的第三反射鏡特別用于將第二分面鏡(其特別形成光瞳分面鏡)成像至布置在照明光學單元下游的投射光學單元內的機械上無法達到的平面中，特別是成像至投射光學單元的機械上無法達到的光瞳平面中。

作為這種照明光學單元實施例的結果，可簡化包含照明光學單元以及分配至此的投射光學單元的光學系統的設計，特別是包含此光學系統的掃描儀的設計。