[發明專利]投射曝光系統的照明光學單元

有效

• 申請號: 201580050425.6
• 申請日: 2015-10-02
• 公開（公告）號: CN106716254B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: M.帕特拉;S.比林;M.德岡瑟;R.米勒
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種將照明輻射(5)引導至物場(11_i)的投射曝光系統(1)的照明光學單元(17_i)，包含：

1.1.多個輻射反射組件，

1.2.其中所有輻射反射組件布置為使得在這些組件處以相同方式偏轉具有照明輻射(5)的光束(10_i)，

其中所有所述輻射反射組件布置為使得具有所述照明輻射(5)的光束(16_i)分別具有入射角(α_i)，其在所述輻射反射組件的每一個處不超過25°，

其中所述具有照明輻射(5)的光束(10_i)在所述輻射反射組件的每一個處偏轉一偏轉角度，任兩個偏轉角度之間的比不超過1.5，以及

其中所述輻射反射組件包含第一分面鏡(28_i)、第二分面鏡(29_i)和至少一個其它反射鏡(37_i)，所述至少一個其它反射鏡布置在光束路徑中所述第二分面鏡(29_i)的下游或所述第一分面鏡(28_i)的上游。

2.一種將照明輻射(5)引導至物場(11_i)的投射曝光系統(1)的照明光學單元(17_i)，包含：

2.1.多個輻射反射組件，

2.2.其中所有輻射反射組件布置為使得在這些組件處以相同方式偏轉具有照明輻射(5)的光束(10_i)，

其中所有所述輻射反射組件布置為使得具有所述照明輻射(5)的光束(16_i)分別具有入射角(α_i)，其在所述輻射反射組件的每一個處不超過25°，

其中所述輻射反射組件導致所述具有照明輻射(5)的光束的總偏轉在從45°至135°的范圍中，以及

其中所述輻射反射組件包含第一分面鏡(28_i)、第二分面鏡(29_i)和至少一個其它反射鏡(37_i)，所述至少一個其它反射鏡布置在光束路徑中所述第二分面鏡(29_i)的下游或所述第一分面鏡(28_i)的上游。

3.如權利要求1或2所述的照明光學單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件在光束路徑的方向上，包含第一分面鏡(28_i)和第二分面鏡(29_i)以及精確的一個其它反射鏡(37_i)，所述其它反射鏡布置在該第二分面鏡(29_i)與該物場(11_i)之間的光束路徑中，或在該第一分面鏡(28_i)之前的光束路徑中。

4.如權利要求1或2所述的照明光學單元(17_i)，其特征在于所述輻射反射組件之一將所述輻射反射組件中的另一個成像至下游的投射光學單元(14_i)中的光瞳平面(40)中。

5.如權利要求1或2所述的照明光學單元(17_i)，其特征在于在所述照明輻射(5)的光束路徑中的所述輻射反射組件中的第一個實施為分面鏡(28_i)，其具有可切換分面(30)。

6.如權利要求1或2所述的照明光學單元(17_i)，其特征在于所述光束路徑中所述輻射反射組件的前兩個布置為彼此相距一距離(d1)，該距離小于該光束路徑中所述輻射反射組件中第二個和第三個之間的距離(d2)。