[發(fā)明專利]抗體純化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580050412.9 | 申請日: | 2015-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN107001408B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | D·梅;T·阿托拉格貝;G·M·法夸爾森;S·沙班;M·科勒克;G·米特拉 | 申請(專利權)人: | 聯(lián)合治療學有限公司;以秘書處;衛(wèi)生和人類服務部為代表的美利堅合眾國 |
| 主分類號: | C07K1/14 | 分類號: | C07K1/14;C07K1/34;C07K1/36;C07K16/30;B01D15/12;B01D15/18;B01D15/24;B01D15/36;B01D15/38 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 余穎;楊昀 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗體 純化 方法 | ||
在此公開的內容包括:一種純化生物組合物的方法,包括滲濾生物組合物成為含磷酸鹽緩沖液(PBS)的組合物,從而獲得純化組合物。該方法特別適用于從生物組合物中去除一種或多種雜質,例如二(2?羥乙基)氨基?三(羥甲基)甲烷(Bis?tris)。
相關申請的交叉援引
本申請要求2014年7月25日提交的美國臨時申請62/028,994的優(yōu)先權,本文援引并采納該臨時申請的全部內容。
背景技術
通常要求純化單克隆抗體和其它生物材料的已知方法能夠去除不希望其存在的雜質,這對于用于醫(yī)療目的生物制品而言尤其重要。去除雜質的方法之一是滲濾。滲濾是一種已知方法,相關記載可見于例如:Wayne P.Olson,《分離技術:藥學與生物技術應用》(Separations Technology:Pharmaceutical and Biotechnology Applications)(英特法姆出版社(Interpharm Press),1995;Munir Cheryan,《超濾與微濾手冊》(Ultrafiltration and Microfiltration Handbook),第二版,CRC出版社(CRC Press),1998;Stefan Behme,《藥用蛋白質的制造》(Manufacturing of PharmaceuticalProteins)(Wiley-VCH出版社2009);以及Glyn N.Stacey,《來自動物細胞培養(yǎng)的藥品》(Medicines from Animal Cell Culture)(約翰威立出版社(John Wiley)2007);本文援引并采納以上文獻的全部內容。
Ch14.18(本文中亦稱“dinutuximab”)是一種抗-GD2單克隆抗體,參見Gillies等,Journal of Immunological Methods,125:191-202(1989),本文援引并采納其全部內容。當ch14.18抗體用于治療,去除雜質(例如二(2-羥乙基)氨基-三(羥甲基)甲烷(Bis-tris))非常重要,為的是確保該單克隆抗體的安全性和有效性。因此,需要更多去除生物組合物中不希望其存在的雜質的方法。
發(fā)明概述
本文中許多實施方式涉及純化生物組合物的方法,所述方法包括用磷酸鹽緩沖液(PBS)對生物組合物進行滲濾,從而獲得純化組合物。
實施方式之一中,生物組合物包含至少一種分離的蛋白質。
實施方式之一中,分離的蛋白質是單克隆抗體。實施方式之一中,單克隆抗體是ch14.18。
實施方式之一中,生物組合物還含有至少一種雜質。實施方式之一中,雜質是二(2-羥乙基)氨基-三(羥甲基)甲烷(Bis-tris)。實施方式之一中,生物組合物中Bis-tris的濃度是pH6.3至6.7下10至50mM Bis-tris。
實施方式之一中,滲濾去除生物組合物中至少50%的Bis-tris。實施方式之一中,滲濾去除生物組合物中至少70%的Bis-tris。
實施方式之一中,PBS的濃度是10至50mM磷酸鈉和100至200mM NaCl。
實施方式之一中,在被滲濾成為含PBS的組合物之前,單克隆抗體被濃集至至少2.0至5.0AU的濃度。實施方式之一中,在被滲濾成為含PBS的組合物之前,單克隆抗體被濃集至至少4.0至6.0AU的濃度。
實施方式之一中,本文中的方法還包括用至少一種層析柱分離和純化單克隆抗體。
實施方式之一中,本文中的方法包括用至少一種親和層析柱、至少一種陽離子交換層析柱和/或至少一種陰離子交換層析柱分離和純化單克隆抗體。實施方式之一中,陰離子交換層析柱是CaptoTM附著柱。實施方式之一中,用含Bis-tris的組合物將單克隆抗體從CaptoTM附著柱上洗脫。
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