[發明專利]渦旋型流體設備

有效

• 申請號: 201580049598.6
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN106715909B
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 田中雄太;本田宏;梶本定明
• 申請（專利權）人: 三電控股株式會社
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F01C1/02;F01C19/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 韓俊

一種渦旋型流體設備，使得以阿基米德螺線形成環繞件的渦卷形狀的渦旋單元的軸向上的密封性。在以阿基米德螺線形成定渦盤(2)及動渦盤(3)的環繞件(2b、3b)的渦卷形狀的渦旋型流體設備(1)中，將定渦盤(2)和動渦盤(3)的環繞件外周部的精加工終點附近的環繞件壁厚(A)設為能配置頂端密封件(40、41)的最小壁厚(As)(As＝2×B1s(或B2s)+c)。B1s是從環繞件外壁至頂端密封槽的最小壁厚，B2s(＝B1s)是從環繞件內壁至頂端密封槽的最小壁厚，c(固定)為頂端密封件寬度。

技術領域

本發明涉及一種渦旋型流體設備，詳細而言涉及一種使以阿基米德螺線形成環繞件的渦卷形狀的渦旋單元的軸向上的密封性得到提高的渦旋型流體設備。

背景技術

渦旋型流體設備包括渦旋單元，該渦旋單元具有在底板立設有渦卷狀的環繞件的定渦盤和動渦盤，并在彼此相對地嚙合的兩個渦盤的環繞件之間形成密閉空間，上述渦旋型流體設備通過自轉阻止機構阻止動渦盤的自轉，并且使動渦盤繞定渦盤的軸心進行公轉回旋運動，來使密閉空間的容積變化，以使流體壓縮或是膨脹。

作為這種渦旋型流體設備，例如存在專利文獻1所記載的這種流體設備。上述渦旋型流體設備用阿基米德螺線的方式形成動渦盤和動渦盤的各環繞件的渦卷形狀。若將環繞件的渦卷形狀設為阿基米德螺線，則由于能使環繞件的壁厚隨著從環繞件的中央部向外周部而逐漸減小(變薄)，因此，能實現渦旋單元的小型輕量化。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特許第3291844號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

然而，在渦旋單元1中，為了防止單元在軸向上的流體泄漏，在環繞件各自的上端面形成頂端密封槽，以配置頂端密封件。在由通常的漸開曲線(日文：インボリュート曲線)形成環繞件的渦卷形狀的情況下，由于環繞件的壁厚是固定的，因此，將配置頂端密封件的環繞件上端面的頂端密封槽的螺旋形狀形成為從環繞件的中央部(卷繞開始部)至外周部(卷繞結束部)相同的螺旋形狀，從而能配置足以防止流體泄漏的長度的頂端密封件。然而，在以阿基米德螺線形成環繞件的渦卷形狀的情況下，由于環繞件壁厚隨著從環繞件的中央部(卷繞開始部)向外周部(卷繞結束部)減小(變薄)，因此，無法將頂端密封件配置到直至環繞件外周部，與以漸開曲線形成環繞件的渦卷形狀的情況相比，存在有損渦旋單元在軸向上的密封性的可能性。

本發明是著眼于上述問題點而作，其目的在于提供一種渦旋型流體設備，實現了渦旋單元的小型輕量化，并且使以阿基米德螺線形成環繞件的渦卷形狀的渦旋單元在軸向上的密封性得到提高。

解決技術問題所采用的技術方案

因此，本發明的渦旋型流體設備包括渦盤單元，該渦盤單元使在底板立設有渦卷狀的環繞件的、且在形成于環繞件的上端面的頂端密封槽中配置有頂端密封件的定渦盤及動渦盤彼此相對，來使各自的環繞件嚙合，自轉受到阻止的上述動渦盤一邊與上述定渦盤接觸一邊進行公轉，在各環繞件之間形成容積隨著公轉發生變化的密閉空間，上述渦旋型流體設備以使環繞件壁厚隨著從環繞件的中央部向外周部減小的阿基米德螺線形成上述兩個渦盤的環繞件的渦卷形狀，其特征是,將上述兩個渦盤中的至少一個渦盤的環繞件外周部的精加工終點附近的環繞件壁厚設為能夠配置上述頂端密封件的最小壁厚。

發明效果

根據本發明的渦旋型流體設備，在以環繞件壁厚隨著從環繞件的中央部向外周部減小的阿基米德螺線形成渦盤的環繞件渦卷形狀的渦旋單元中，由于將渦盤的環繞件外周部的精加工終點附近的環繞件壁厚設為能夠配置頂端密封件的最小壁厚，因此，即使在以阿基米德螺線形成環繞件渦卷形狀的情況下，也能可靠地將頂端密封件配置到環繞件的外周部。因而，能使渦旋單元小型輕量化，并且能提高以阿基米德螺線形成環繞件的渦旋單元的軸向上的密封性。

附圖說明