[發明專利]組合的墊片和孔冷卻組件有效
| 申請號: | 201580049217.4 | 申請日: | 2015-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN107076816B | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發明(設計)人: | N·P·阿雷;N·J·貝爾頓;M·H·亨普斯特德;M·凱普;P·W·雷茨 | 申請(專利權)人: | 西門子醫療有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/3873 | 分類號: | G01R33/3873;G01R33/3815;G01R33/38 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 王茂華;呂世磊 |
| 地址: | 英國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 組合 墊片 冷卻 組件 | ||
1.一種用于對磁共振成像設備的圓柱形超導磁體的背景磁場進行勻場的裝置,所述裝置包括圓柱形外部真空室孔管(1),其中導軌(8、9)設置在所述圓柱形外部真空室孔管的徑向內表面上,并且包含墊片元件的墊片托盤(4)被安裝在相應的導軌之間,
其中由導軌(8、9)保持的墊片托盤(4)的多個布置圍繞所述圓柱形外部真空室孔管(1)的所述徑向內表面彼此相鄰地被定位
-所述導軌(8、9)具有凹槽(12),以容納相應墊片托盤(4)的相應邊緣;
-在每個墊片托盤(4)和相應的所述凹槽(11)中的至少一個凹槽之間提供過盈配合;
-其特征在于,所述導軌(8、9)中的至少一些導軌包括通路(13),所述通路通過管道(14、20)連接到用于冷卻劑流體循環通過其中的冷卻劑回路中,
-所述導軌(8、9)和所述墊片托盤(4)至少部分地由導熱材料構成,并且彼此熱接觸以及與所述圓柱形外部真空室孔管熱接觸,由此所述冷卻劑流體用于穩定所述圓柱形外部真空室孔管、所述墊片托盤和所述墊片元件的溫度,
其中所述墊片托盤(4)包括底部件(16)和固定到所述底部件的蓋(18),所述蓋與所述導軌熱接觸,其中所述墊片托盤和所述導軌圍繞所述圓柱形外部真空室孔管延伸,形成用于所述圓柱形外部真空室孔管的熱屏蔽。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中所述墊片托盤能夠沿所述導軌(8、9)滑動,并且提供固定裝置以將所述墊片托盤沿所述導軌的長度保持在期望的位置。
3.根據前述權利要求中的任一項所述的裝置,其特征在于,至少一個墊片托盤(4)包括鐵磁材料或順磁材料。
4.根據權利要求1所述的裝置,其中所述底部件(16)和所述蓋(18)彼此熱接觸,使得所述底部件也與所述導軌熱接觸。
5.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其中墊片托盤(4)的相應邊緣各自具有側向唇部(11),所述凹槽(12)通過所述側向唇部保持所述墊片托盤(4)。
6.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其特征在于,所述導軌(8、9)中的至少一個導軌包括鐵磁材料或順磁材料。
7.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其中所述冷卻劑回路包括冷卻器(26)。
8.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其中所述冷卻劑回路包括循環器(24)。
9.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其中每個導軌(8、9)具有相應的凹槽(12),每個凹槽保持兩個相鄰墊片托盤中的每個墊片托盤的相應邊緣。
10.根據權利要求1、2和4中的任一項所述的裝置,其中每個導軌(8、9)具有相應的凹槽(12),每個凹槽保持兩個相鄰墊片托盤中的每個墊片托盤的相應的側向唇部(11)。
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