[發明專利]組合的墊片和孔冷卻組件

有效

• 申請號: 201580049217.4
• 申請日: 2015-09-09
• 公開（公告）號: CN107076816B
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: N·P·阿雷;N·J·貝爾頓;M·H·亨普斯特德;M·凱普;P·W·雷茨
• 申請（專利權）人: 西門子醫療有限公司
• 主分類號: G01R33/3873
• 分類號: G01R33/3873;G01R33/3815;G01R33/38
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

一種用于對磁共振成像設備的背景磁場進行勻場的裝置，磁共振成像設備具有外部真空室(OVC)孔管(1)。導軌(8、9)設置在OVC孔管上，并且墊片托盤(4)被安裝在相應的導軌之間。

背景技術

在磁共振成像(MRI)設備中，背景磁場的均勻性和穩定性與測量的質量高度相關。為了改善背景磁場的均勻性，可以使用無源勻場，無源勻場涉及墊片元件，墊片元件是靠近成像區域放置的具有良好磁特性的鋼片。墊片元件被磁化并且使背景磁場畸變。墊片被布置為使得所產生的畸變使背景場更均勻。

用于MRI設備的超導磁體通常是圓柱形形狀，并且被容納在圓柱形低溫恒溫器內。圓柱形低溫恒溫器包括具有圓柱形孔管的外部真空室(OVC)，該外部真空室包圍成像區域。已知的是，外部真空室孔管中和墊片中的溫度升高可能會由于材料的磁導率的變化而引起磁共振成像設備中的磁場漂移。這種溫度升高可能由梯度場線圈引起，該梯度場線圈被容納在OVC孔管內并且生成由MRI系統成像所需的振蕩磁場。梯度線圈本身在操作期間變熱，并且其振蕩磁場在附近的傳導表面(諸如，墊片和OVC孔管)中感應出電流，從而會導致那些表面溫度升高。

附圖說明

下面參考附圖，基于優選的實施例來闡釋本發明。在附圖中：

圖1示出了具有示例墊片托盤的外部真空室孔管的三維剖視圖，示例墊片托盤安裝在孔管內側的導軌上；

圖2示出了與圖1類似的布置，該布置示出了在圓柱形OVC孔管周圍彼此相鄰定位的通道中的墊片托盤的多種布置；

圖3示出了圖2的布置的另一視圖，包括含有冷卻流體的通道系統的概況；以及

圖4至圖10各自非常示意性地呈現可用于本發明的相應實施例中的通路和管道的布置。

本發明的目的是在成像期間使墊片和OVC孔管的溫度穩定。因此，本發明提供了如獨立權利要求中限定的設備。從屬權利要求示出了優選實施例。

具體實施方式

盡管以下描述將優先地涉及“冷卻”，但本發明適用于溫度穩定化。例如，下面描述的“冷卻流體”和“冷卻劑”可以用于對設備的一些部件進行加溫以及對其它部件進行冷卻，以使整體的溫度穩定。

提出了一種用于對磁共振成像設備的磁場進行勻場的布置，磁共振成像設備具有外部真空室孔管，其中提供了包含墊片元件的墊片托盤，并且墊片托盤被安裝在導軌上，導軌自身被安裝在外部真空室孔管上，由此墊片托盤可以沿著導軌滑動，在導軌中至少部分地布置有包含冷卻流體的通道系統。

墊片托盤允許墊片元件的緊密固定。這是相關的，因為墊片元件承受由磁場引起的高的力。

通過使得墊片托盤和導軌至少部分地由導熱材料制成，冷卻流體用于冷卻OVC孔管、墊片托盤和墊片元件。

將包含冷卻流體的通道系統布置在至少一些導軌中允許在包含冷卻流體的通道系統之間的直接和良好的熱接觸，因此熱可以通過墊片托盤和導軌從墊片元件非常高效地傳遞到通道系統中的冷卻流體。此外，通過包含冷卻流體的通道系統的這種布置實現了對外部真空室孔管的冷卻。

墊片托盤在通道中的多種布置可以圍繞圓柱形OVC孔管彼此相鄰地被定位。冷卻的墊片托盤然后還可以用作熱屏蔽件，從而保護OVC孔管免受從梯度線圈組件發出的輻射熱的影響。墊片元件以及可能還有墊片托盤是導電的，并且還可以屏蔽OVC孔管以免受由梯度線圈組件生成的振蕩磁場的影響。這樣的墊片托盤組件因此可以進一步穩定外部真空室孔管的溫度。

優選的冷卻流體是水。水在室溫附近的溫度處具有高的比熱、是無毒的、便宜的且容易得到的。也可以使用其它冷卻流體。

導軌優選地與OVC孔管的對稱軸線對齊，并且允許沿導軌調整墊片托盤的位置，從而允許調節墊片托盤中的墊片元件的勻場效應。至少一個導軌和/或至少一個墊片托盤可以至少部分地由進一步增強勻場效應的鐵磁材料制造。