[發(fā)明專利]襯底處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法及記錄介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580048932.6
• 申請日: 2015-09-16
• 公開（公告）號: CN107078052B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 小前泰彰;野上孝志;吉田秀成;谷山智志;小竹繁
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社國際電氣
• 主分類號: H01L21/31
• 分類號: H01L21/31;C23C16/455
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 陳偉;沈靜

1.一種襯底處理裝置，其特征在于，具有：

熱壁型的處理室，其對沿垂直方向排列成多層的襯底進行處理；

加熱機構(gòu)，其以包圍所述處理室的方式設(shè)置，將整個所述處理室內(nèi)加熱成均勻或規(guī)定的溫度分布；

處理氣體供給系統(tǒng)，其向所述處理室內(nèi)供給包括原料氣體和反應(yīng)氣體的處理氣體；

排氣管，其與所述處理室的側(cè)壁的一部分連接，對所述處理室內(nèi)的環(huán)境氣體進行排氣；

第一排氣系統(tǒng)，其具有從所述排氣管以直角分支的第一排氣管和設(shè)于所述第一排氣管的中途的第一泵，并在下游側(cè)與類型不同于所述第一泵的第二泵連接，且對所述處理室內(nèi)進行排氣；

第二排氣系統(tǒng)，其具有與所述排氣管連接的第二排氣管，與所述第二泵連接，且對所述處理室內(nèi)進行排氣；以及

控制部，其構(gòu)成為以如下方式對所述第一排氣系統(tǒng)及所述第二排氣系統(tǒng)進行控制：在將供給至所述處理室內(nèi)的所述處理氣體從所述處理室內(nèi)排出時，先從所述第二排氣系統(tǒng)對所述處理室內(nèi)進行排氣，當(dāng)所述處理室內(nèi)的壓力達到規(guī)定壓力后，將排氣路徑從所述第二排氣系統(tǒng)切換成所述第一排氣系統(tǒng)，并從所述第一排氣系統(tǒng)對所述處理室內(nèi)進行排氣，

所述第一排氣系統(tǒng)在比所述第一泵靠上游側(cè)的位置包含排氣閥，所述第二排氣系統(tǒng)在比所述第二泵靠上游側(cè)的位置包含APC閥，

使相對于所述處理室內(nèi)的所述襯底供給原料氣體的工序、和相對于所述襯底供給反應(yīng)氣體的工序以中間隔著對所述處理室內(nèi)的氣體進行排氣的工序的方式交替進行規(guī)定次數(shù)而在所述襯底上成膜，在所述進行排氣的工序中，所述控制部通過以打開所述排氣閥并關(guān)閉所述APC閥的方式進行控制，而將所述排氣路徑從所述第二排氣系統(tǒng)切換到所述第一排氣系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，與所述第二泵相比，所述第一泵在低壓區(qū)域內(nèi)的排氣效率更高，

在所述進行排氣的工序的期間，所述處理室內(nèi)的壓力持續(xù)降低。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述第一泵是軸流泵，所述第二泵是干式真空泵。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述第一泵設(shè)置在從所述處理室離開規(guī)定距離的位置上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述規(guī)定距離為1m以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述第一泵設(shè)置在所述襯底處理裝置的殼體內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述襯底處理裝置還具備壓力傳感器，該壓力傳感器設(shè)于所述排氣管，并用于檢測所述處理室內(nèi)的壓力，

所述排氣閥是閘閥，

所述控制部基于所述壓力傳感器控制由所述APC閥進行的壓力調(diào)整動作。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述第一泵與所述第二泵相比設(shè)置在離所述處理室更近的位置上，

所述第一排氣管及所述第二排氣管朝向所述第二泵而向下方延伸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述規(guī)定壓力為將所述處理室內(nèi)殘留的所述處理氣體和副產(chǎn)物除去至不會給所述第一泵帶來不良影響的程度的10～100Pa。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述控制部構(gòu)成為以如下方式對所述APC閥及所述閘閥進行控制：當(dāng)所述處理氣體的排氣開始時，打開所述APC閥并關(guān)閉所述閘閥，當(dāng)所述處理室內(nèi)的壓力達到所述規(guī)定壓力時，關(guān)閉所述APC閥并打開所述閘閥。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底處理裝置，其特征在于，所述控制部構(gòu)成為以如下方式進行控制：在所述進行排氣的工序中，向所述處理室內(nèi)供給非活性氣體，并且，先從所述第二排氣系統(tǒng)對所述處理室內(nèi)進行排氣，當(dāng)所述處理室內(nèi)的壓力達到規(guī)定壓力后，將排氣路徑從所述第二排氣系統(tǒng)切換成所述第一排氣系統(tǒng)，并從所述第一排氣系統(tǒng)對所述處理室內(nèi)進行排氣。