[發(fā)明專利]用于監(jiān)測輻射源的裝置、輻射源、監(jiān)測輻射源的方法、器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580048811.1
• 申請日: 2015-08-11
• 公開（公告）號: CN107077073B
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發(fā)明（設計）人: E·W·伯加特;趙創(chuàng)新
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;呂世磊

1.一種用于監(jiān)測用于光刻設備的輻射源的裝置，所述輻射源被配置成通過從燃料生成等離子體來產生輻射，所述裝置包括：

一個或多個電容器，其中每個電容器包括至少兩個導體，所述至少兩個導體被安裝成使得蒸氣能夠流過所述導體之間的間隙，其中所述間隙中的所述蒸氣的濃度和由所述蒸氣在所述間隙中形成的沉積物的量中的一項或兩項對所述電容器的電容具有影響；和

測量系統(tǒng)，被配置成：通過測量所述一個或多個電容器中的至少一個電容器的電容或依賴于所述電容的參數，針對所述一個或多個電容器中的至少一個電容器，輸出在所述電容器的所述間隙中的所述蒸氣的濃度的測量和在所述電容器的所述間隙中的所述沉積物的量的測量中的一項或兩項。

2.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

控制器，被配置成使用由所述測量系統(tǒng)輸出的所述蒸氣的所述濃度的所述測量或所述沉積物的所述量的所述測量來控制所述輻射源的一個或多個操作參數。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中所述一個或多個操作參數包括被配置成將激光輻射傳遞至所述燃料以便創(chuàng)建所述等離子體的激光傳遞系統(tǒng)的操作參數。

4.根據權利要求2或3所述的裝置，其中所述一個或多個操作參數包括燃料輸送系統(tǒng)的操作參數，所述燃料輸送系統(tǒng)被配置成生成待蒸發(fā)的所述燃料的流。

5.根據權利要求2至4中的任一項所述的裝置，其中所述控制器被配置成控制所述一個或多個操作參數，使得當由所述測量系統(tǒng)測得的所述蒸氣的所述濃度的所述測量下降到低于下閾值時，所述等離子體的生成速率被增加。

6.根據權利要求2至5中的任一項所述的裝置，其中所述一個或多個操作參數包括氣體輸送系統(tǒng)的操作參數，所述氣體輸送系統(tǒng)被配置成提供用于從所述輻射源中去除蒸氣的通過所述輻射源的氣流。

7.根據權利要求2至6中的任一項所述的裝置，其中所述控制器被配置成檢測由所述測量系統(tǒng)測得的所述沉積物的所述量的所述測量何時上升到高于上閾值。

8.根據前述權利要求中的任一項所述的裝置，其中

所述一個或多個電容器包括第一電容器和第二電容器，所述第一電容器和所述第二電容器中的每個電容器包括至少兩個導體；

所述第一電容器的所述至少兩個導體與所述第二電容器的所述至少兩個導體不同地配置；以及

所述測量系統(tǒng)被配置成：使用來自所述第一電容器和所述第二電容器兩者的測量，針對所述第一電容器和所述第二電容器中的任一個或兩者，在由所述電容器的所述間隙中的蒸氣的濃度引起的對所述電容器的所述電容的影響與由所述電容器的所述間隙中的由所述蒸氣形成的沉積物的量引起的對所述電容器的所述電容的影響之間進行區(qū)分。

9.根據前述權利要求中的任一項所述的裝置，其中所述一個或多個電容器包括具有兩個導體的電容器和被配置成在所述導體之間提供相對運動以便使所述電容器的所述電容變化的運動機構。

10.根據權利要求9所述的裝置，其中所述運動機構包括轉動機構，所述轉動機構被配置成在所述導體中的兩個導體之間提供相對轉動，以便使所述兩個導體的彼此面對的表面區(qū)域的大小變化。

11.根據前述權利要求中的任一項所述的裝置，其中所述一個或多個電容器包括具有三個或更多導體的電容器，所述三個或更多導體被安裝成使得所述蒸氣能夠流過多個間隙，所述多個間隙中的每個間隙設置在不同對的所述導體之間。

12.根據前述權利要求中的任一項所述的裝置，進一步包括溫度測量系統(tǒng)和加熱系統(tǒng)中的一項或兩項，所述溫度測量系統(tǒng)被配置成測量所述電容器中的一個或多個電容器的溫度，所述加熱系統(tǒng)被配置成對所述電容器中的一個或多個施加加熱。

13.一種輻射源，包括根據前述權利要求中的任一項所述的用于監(jiān)測輻射源的裝置。