[發明專利]磁盤用基板的制造方法和磁盤用基板

在審

• 申請號: 201580047901.9
• 申請日: 2015-09-14
• 公開（公告）號: CN106605264A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 俵義浩
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成

1.一種磁盤用基板的制造方法，其特征在于，該磁盤用基板的制造方法包括下述研磨處理，即，用一對研磨墊夾持基板，向所述研磨墊與所述基板之間供給包含電介質材料的研磨磨粒的漿料，使所述研磨墊與所述基板相對滑動，由此對所述基板的兩主表面進行研磨，

在所述研磨處理前，進行除去處理，即，所述漿料在由電極形狀而產生的電場強度的分布不均勻的交流電場中通過，利用介電電泳將所述漿料中存在的異物與研磨磨粒分離，除去異物。

2.如權利要求1所述的磁盤用基板的制造方法，其中，所述研磨磨粒為二氧化硅磨粒，

所述二氧化硅磨粒使用水玻璃和離子交換樹脂獲得。

3.如權利要求2所述的磁盤用基板的制造方法，其中，在所述研磨處理前，在所述漿料中添加使所述二氧化硅磨粒的表面電位的絕對值減少的添加劑，所述添加劑的添加在所述除去處理后進行。

4.如權利要求1～3中任一項所述的磁盤用基板的制造方法，其中，對所述除去處理后的研磨磨粒實施破碎處理。

5.如權利要求1～4中任一項所述的磁盤用基板的制造方法，其中，所述除去處理前的所述漿料中的所述研磨磨粒的含量比所述研磨處理后的所述漿料中的所述研磨磨粒的含量高。

6.如權利要求1～5中任一項所述的磁盤用基板的制造方法，其中，在所述研磨處理后，進行對基板的主表面進行清洗的清洗處理，在所述清洗處理中，使用pH小于10的包含無機堿的堿清洗液。

7.如權利要求1～6中任一項所述的磁盤用基板的制造方法，其中，在所述研磨處理后，進行對基板的主表面進行清洗的清洗處理，

所述清洗處理為使所述基板浸漬到清洗液中或與清洗液接觸的非擦洗清洗。

8.如權利要求1～7中任一項所述的磁盤用基板的制造方法，其中，在所述除去處理中，利用介電電泳將由膠態二氧化硅構成的研磨磨粒與由層狀硅酸鹽構成的板狀異物分離，除去漿料中的板狀異物。

9.一種磁盤用基板的制造方法，其特征在于，該磁盤用基板的制造方法包括下述研磨處理，即，用一對研磨墊夾持基板，向所述研磨墊與所述基板之間供給包含由膠態二氧化硅構成的研磨磨粒的漿料，使所述研磨墊與所述基板相對滑動，由此對所述基板的兩主表面進行研磨，

所述研磨處理中所用的漿料如下獲得：使漿料原液在電極間通過，該電極具有通過施加交流電壓而能產生電場強度的分布不均勻的電場的形狀，從而對所述漿料原液中包含的由層狀硅酸鹽構成的板狀異物產生正的介電電泳或負的介電電泳，抑制所述板狀異物通過所述電極間，將所述板狀異物從所述漿料原液中除去，由此得到所述漿料。

10.一種磁盤用基板，其為具備具有圓孔的一對主表面、形成圓孔的內周端面和外周端面的磁盤用基板，其特征在于，

所述主表面中，最大徑為100nm以上的由層狀硅酸鹽構成的板狀異物的附著數小于2個/片。