[發明專利]極紫外（EUV）輻射源

在審

• 申請號: 201580047065.4
• 申請日: 2015-09-01
• 公開（公告）號: CN106605450A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: V·V·德什潘德;S·V·德什潘德;D·克利斯;O·格魯申克夫;S·克里什南
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 酆迅;董典紅

1.一種用于產生極紫外(EUV)輻射的裝置，所述裝置包括：

極紫外(EUV)輻射源粒料產生器，被配置為產生EUV輻射粒料，所述EUV輻射粒料包含：

至少一個金屬顆粒；

重惰性氣體團簇，被嵌入有所述至少一個金屬顆粒；以及

惰性氣體殼團簇，被嵌入有所述重惰性氣體團簇并且包含選自He、Ne和Ar的輕惰性氣體的團簇；以及

至少一個照射源，其中所述至少一個照射源中的每個照射源被配置成朝著所述EUV輻射粒料的路徑來照射激光束。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述至少一個照射源包括：

第一激光源，被配置成在所述EUV輻射粒料的所述路徑中的第一點處照射第一激光束；以及

第二激光源，被配置成在所述EUV輻射粒料的所述路徑中的第二點處照射第二激光束，與所述第一點距離產生所述EUV照射粒料的位置相比，所述第二點更遠離于所述位置。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中所述第二激光束的強度比所述第一激光束的強度大至少兩倍。

4.根據權利要求2所述的裝置，其中所述第二激光束具有比所述第一激光束長的波長。

5.根據權利要求2所述的裝置，其中所述第二激光束是來自CO2激光器的激光束，且所述第一激光束具有短于800nm的波長。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述EUV輻射源粒料產生器包括：

液滴產生器單元，被配置為沿著液滴傳輸路徑來發射所述輕惰性氣體He、Ne和Ar的團簇；

金屬顆粒產生器，被配置成沿著金屬顆粒束方向來發射所述至少一個金屬顆粒，所述金屬顆粒束方向在第一相交區域處與所述液滴傳輸路徑相交；以及

重惰性氣體團簇束產生器，被配置成沿著重惰性氣體團簇束方向來發射所述重惰性氣體的團簇，所述重惰性氣體團簇束方向在第二相交區域處與所述液滴傳輸路徑相交。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中與所述第二相交區域至發射所述輕惰性氣體的團簇的位置相比，所述第一相交區域更靠近于所述位置。

8.根據權利要求6所述的裝置，其中與所述第一相交區域距離發射所述輕惰性氣體的團簇的位置相比，所述第二相交區域更靠近于所述位置。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中所述EUV輻射源粒料的所述路徑是基本豎直向下的路徑。

10.根據權利要求1所述的裝置，其中，在所述EUV輻射源粒料的每個中，所述輕惰性氣體的原子總數比在所述重惰性氣體團簇中的重惰性氣體原子的總數大至少兩倍。

11.一種極紫外(EUV)輻射源粒料，包括：

至少一個金屬顆粒；

重惰性氣體團簇，被嵌入有所述至少一個金屬顆粒；以及

惰性氣體殼團簇，被嵌入有所述重惰性氣體團簇并且包含選自He、Ne和Ar的輕惰性氣體的團簇。

12.根據權利要求11所述的EUV輻射源粒料，其中所述輕惰性氣體的原子總數比在所述重惰性氣體團簇中的重惰性氣體原子的總數大至少兩倍。

13.根據權利要求11所述的EUV輻射源粒料，在所述重惰性氣體團簇中的重惰性氣體原子的總數比在所述至少一個金屬顆粒中的所述原子的總數大至少十倍。

14.根據權利要求11所述的EUV輻射源粒料，其中所述至少一個金屬顆粒是多個金屬顆粒。

15.根據權利要求14所述的EUV輻射源粒料，其中所述多個金屬顆粒分散在所述重惰性氣體團簇內。