[發(fā)明專利]結(jié)構(gòu)體及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580046181.4 | 申請(qǐng)日: | 2015-09-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106664795B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 淺野雅朗;馬渡宏;岡村崇史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 大日本印刷株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H05K1/11 | 分類號(hào): | H05K1/11;H01L23/12;H01L23/32;H05K3/40 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明的目的在于提供一種不會(huì)使制造工序復(fù)雜化而能夠?qū)膶?dǎo)電材料中產(chǎn)生的氣體成分等有效地排出到外部的結(jié)構(gòu)體。本發(fā)明的結(jié)構(gòu)體包括:絕緣性的基板,包括第一面以及與所述第一面對(duì)置的第二面;貫通孔,貫通所述基板的所述第一面以及所述第二面;以及貫通電極,配置于所述貫通孔內(nèi),用于使所述基板的所述第一面和所述第二面導(dǎo)通,具有從所述第二面向所述貫通孔外部露出的突出部,并且包含導(dǎo)電材料,所述貫通孔的至少一部分的開(kāi)口面積在所述基板的厚度方向上隨著接近所述第二面而逐漸變大,而具有用于在所述貫通孔與所述貫通電極之間形成間隙的凹陷部。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及結(jié)構(gòu)體及其制造方法,尤其涉及設(shè)置貫通基板的正面和背面的通孔,并在該通孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料而形成的導(dǎo)電材料填充通孔基板及其制造方法。
背景技術(shù)
近年來(lái),隨著電子設(shè)備的高密度化、小型化的發(fā)展,大規(guī)模集成電路(Large ScaleIntegration,LSI)芯片縮小到與半導(dǎo)體封裝件相同的程度,基于封裝件內(nèi)芯片二維配置的高密度化正在達(dá)到極限。于是,為了提高封裝件內(nèi)芯片的安裝密度,需要將LSI芯片拆分并以三維方式層疊。另外,為了使層疊有LSI芯片的半導(dǎo)體封裝件整體高速工作,需要拉近層疊電路之間的距離。
為此,為了滿足上述要求,作為L(zhǎng)SI芯片之間的插入件,提出了包括將基板的正面及背面導(dǎo)通的導(dǎo)通部(通孔,through hole)的貫通電極基板。這種貫通電極基板通過(guò)在貫通孔內(nèi)部利用電解鍍敷等來(lái)填充導(dǎo)電材料(Cu等),來(lái)形成貫通電極。
然而,在以往的貫通電極基板中,已確認(rèn)存在如下現(xiàn)象,即:在制造工序的退火工序中產(chǎn)生的布線層的吹掉(消失)現(xiàn)象,或者在貫通孔內(nèi)的絕緣層等中產(chǎn)生的浮起或破裂的現(xiàn)象。產(chǎn)生這些現(xiàn)象的原因在于當(dāng)進(jìn)行熱處理時(shí),導(dǎo)電材料所含的氣體成分或水分會(huì)膨脹。
為了抑制在如上所述的貫通電極基板的退火工序中產(chǎn)生的布線層的吹掉現(xiàn)象或絕緣層的破裂現(xiàn)象等,提出了例如在專利文獻(xiàn)1或?qū)@墨I(xiàn)2中所記載的結(jié)構(gòu)。在專利文獻(xiàn)1所記載的多層布線基板中,通過(guò)在設(shè)置于填充有導(dǎo)電材料的通孔導(dǎo)體的正上方的過(guò)孔區(qū)域(via island)中,設(shè)置以上下貫通的方式形成的開(kāi)口部,來(lái)抑制當(dāng)進(jìn)行熱處理時(shí)因在導(dǎo)電材料中所包含的氣體成分或水分排出而導(dǎo)致的膨脹。另外,在專利文獻(xiàn)2中所記載的印刷基板中,在覆蓋填充在貫通孔內(nèi)的樹(shù)脂的密封部件的表面的導(dǎo)電膜中設(shè)置與外部環(huán)境氣體連通的孔,使因回流時(shí)的加熱而從密封部件排出的氣體排出到外部環(huán)境氣體。
(現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn))
(專利文獻(xiàn))
專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2002-26520號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2000-252599號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
(發(fā)明所要解決的問(wèn)題)
但是,在專利文獻(xiàn)1中,由于還需要在設(shè)置于通孔導(dǎo)體的正上方的過(guò)孔區(qū)域中,設(shè)置上下貫通的開(kāi)口部,因此制造工序變得復(fù)雜,難以進(jìn)行精密加工。同樣,在專利文獻(xiàn)2中,由于還需要在覆蓋填充在貫通孔內(nèi)的樹(shù)脂的密封部件的表面的導(dǎo)電膜中設(shè)置與外部環(huán)境氣體相連通的孔,因此制造工序變得復(fù)雜,難以進(jìn)行精密加工。
另外,由于根據(jù)專利文獻(xiàn)1或?qū)@墨I(xiàn)2中所記載的方法的導(dǎo)電材料中所包含的氣體成分或水分的外部排出量方面存在極限,因此要求能夠更有效地消除在貫通電極基板的退火工序中產(chǎn)生的布線層的吹掉現(xiàn)象或絕緣層的破裂現(xiàn)象等的方法。
鑒于上述實(shí)際情況,本發(fā)明的目的在于提供一種不會(huì)導(dǎo)致制造工序的復(fù)雜化,能夠?qū)⒃谶M(jìn)行熱處理時(shí)從導(dǎo)電材料中產(chǎn)生的氣體成分或水分更有效地排出到外部的導(dǎo)電材料填充通孔基板等的構(gòu)造體。
(解決問(wèn)題的方案)
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