[發(fā)明專利]噴嘴和積層形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580046031.3
• 申請日: 2015-03-16
• 公開（公告）號(hào): CN107073648B
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘善盈;大野博司;中野秀士;小林晃太朗
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社東芝
• 主分類號(hào): B23K26/144
• 分類號(hào): B23K26/144
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種噴嘴，包括：

主體，其包括開口部，粉末從所述開口部被噴出；以及

磁場生成部，其包括線圈，所述線圈被設(shè)置為在被供應(yīng)以電流時(shí)生成磁場，所述磁場使得帶電且供應(yīng)到所述主體的內(nèi)部的所述粉末旋轉(zhuǎn)且積聚。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，還包括：

供應(yīng)部，其被配置為向所述粉末施加關(guān)于所述磁場的中心軸的圓周方向上的速度以將帶電的所述粉末供應(yīng)到所述主體的內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的噴嘴，

其中，所述線圈被配置為生成朝向所述開口部的端部增加的磁場，所述粉末從所述開口部的端部被噴出。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的噴嘴，

其中，所述線圈包括疊加在彼此之上的多個(gè)線圈，并且疊加的所述線圈的數(shù)目朝向所述開口部的所述端部增加。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的噴嘴，

其中，線圈的每長度匝數(shù)朝向所述開口部的所述端部增加。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的噴嘴，

其中，所述主體被配置為從所述開口部發(fā)射能量射線，并且

所述線圈被配置為生成所述磁場，所述磁場使得所述粉末圍繞所述能量射線旋轉(zhuǎn)。

7.一種積層形成裝置，包括：

噴嘴，其包括主體以及磁場生成部，所述主體包括開口部，粉末從所述開口部被噴出，并且所述磁場生成部包括線圈，所述線圈被設(shè)置為在被施加電流時(shí)生成磁場，所述磁場使得帶電且供應(yīng)到所述主體的內(nèi)部的所述粉末旋轉(zhuǎn)且積聚；

帶電單元，其被配置為使所述粉末帶電；

供應(yīng)部，將通過所述帶電單元而被帶電的所述粉末供應(yīng)至所述主體的內(nèi)部；以及

光學(xué)裝置，其被配置為對(duì)所述粉末進(jìn)行熔融或燒結(jié)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的積層形成裝置，

其中，所述主體被配置為從所述開口部發(fā)射能量射線，所述能量射線由所述光學(xué)裝置生成，并且

所述線圈被配置為生成磁場，所述磁場使得所述粉末圍繞所述能量射線旋轉(zhuǎn)。

9.一種噴嘴，包括：

主體，其包括開口部，粉末從所述開口部被噴出；以及

磁場生成部，其被配置為生成磁場，所述磁場使得帶電且供應(yīng)到所述主體的內(nèi)部的所述粉末旋轉(zhuǎn)且積聚，其中，

所述磁場生成部被配置生成朝向所述開口部的端部增加的所述磁場，粉末從所述開口部的端部被噴出。