[發明專利]噴嘴和積層形成裝置

有效

• 申請號: 201580046031.3
• 申請日: 2015-03-16
• 公開（公告）號: CN107073648B
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: 潘善盈;大野博司;中野秀士;小林晃太朗
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: B23K26/144
• 分類號: B23K26/144
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

根據本發明的一個實施例的噴嘴包括磁場生成部和主體。所述主體包括開口部，粉末從所述開口部被噴出。所述磁場生成部包括線圈，所述線圈被設置為在被供應以電流時生成磁場，所述磁場使得供應到所述主體的內部的所述粉末旋轉。

技術領域

本文描述的實施例總體涉及一種噴嘴和積層形成裝置。

背景技術

在相關領域中，以添加方式形成積層形成的對象的積層形成裝置是已知的。積層形成裝置通過從噴嘴供應材料粉末并且與激光同時地輻照粉末來熔融粉末形成材料層，并且該層被堆疊以形成積層形成的對象。

附圖說明

圖1是示意性地圖示了根據第一實施例的積層形成裝置的視圖；

圖2是示意性地圖示了根據第一實施例的由積層形成進行成形處理的流程的范例的視圖；

圖3是圖示第一實施例的噴嘴、光學裝置和目標的剖視圖；

圖4是示意性地圖示沿著圖3中的F4-F4線的第一實施例的第一主體和供應部的剖視圖；

圖5是圖示根據第二實施例的噴嘴、光學裝置和目標的剖視圖；并且

圖6是圖示根據第三實施例的噴嘴、光學裝置和目標的剖視圖。

具體實施方式

根據一個實施例，一種噴嘴包括磁場生成部和主體。所述磁場生成部被配置為生成磁場。所述主體被配置為使得通過磁場生成部在內部生成磁場，并且所述主體包括被配置為使得從其噴出在磁場中旋轉的粉末的開口部。

在下文中，將參考圖1至圖4給出對第一實施例的描述。而且，在該說明中，基本上，垂直向上方向被定義為向上方向，并且垂直向下方向被定義為向下方向。另外，關于根據實施例的構成要素，要對所述要素進行說明時，可以同時使用多種表述。另外，不禁止使用未關于構成要素和其說明描述的其他表述。另外，不禁止使用在構成要素以及其說明的多個表述中未描述的其他表述。

圖1是示意性地圖示了根據第一實施例的積層形成裝置1的視圖。如在圖1中所圖示的，積層形成裝置1包括處理罐11、平臺12、移動裝置13、噴嘴裝置14、光學裝置15、測量裝置16和控制裝置17。

在本說明書中，X軸、Y軸和Z軸如附圖中所圖示地被定義。X軸、Y軸和Z軸垂直于彼此。例如，Z軸位于沿著垂直方向。而且，可以以Z軸與垂直方向傾斜這樣的方式來布置積層形成裝置1。

例如，積層形成裝置1向平臺12上的目標110上堆疊從噴嘴裝置14供應的材料121，以形成具有預定形狀的積層形成的對象100，材料121的一個范例是粉末。

目標110是材料121由噴嘴裝置14將材料供應到其的目標，并且包括底座110a和層110b。多個層110b被層壓在底座110a的上面上。例如，材料121是粉末狀的金屬材料。而且，材料121不限于此，并且可以是諸如合成樹脂和陶瓷的其他材料。積層形成裝置1通過使用一種或多種材料121來制造積層形成的對象100。

在處理罐11中提供主室21和子室22。子室22被提供為鄰近主控制室21。在主室21與子室22之間提供門23。當門23被打開時，主室21與子室22彼此連通。當門23被關閉時，主室21進入氣密狀態。

進氣口21a和排氣口21b被提供在主室21中。當供氣裝置(未圖示)操作時，諸如氮和氬的惰性氣體通過進氣口21a被供應到主室21。當排氣裝置(未圖示)操作時，主室21內的氣體通過排氣口21b從主室21排出。而且，積層形成裝置1可以通過排氣口21b排出主室21內的氣體以便主室21進入真空狀態。