[發明專利]具有凹凸圖案的構件的制造方法在審
| 申請號: | 201580042029.9 | 申請日: | 2015-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN106660260A | 公開(公告)日: | 2017-05-10 |
| 發明(設計)人: | 高橋麻登香;鳥山重隆;關隆史;佐藤祐輔 | 申請(專利權)人: | 捷客斯能源株式會社 |
| 主分類號: | B29C59/02 | 分類號: | B29C59/02;B29C65/52;H01L21/027;H01L51/50;H05B33/02 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人: | 邵濤 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 凹凸 圖案 構件 制造 方法 | ||
技術領域
本發明是關于一種具有凹凸圖案的構件的制造方法。
背景技術
作為形成如半導體集成電路的微細的凹凸圖案的方法,除平版印刷法以外,已知有納米壓印法。納米壓印法是通過利用模具(mold)與基板夾住樹脂,可將納米級的圖案自模具轉印至基板上的技術,且根據使用材料不同,而對熱納米壓印法、光納米壓印法等進行研究。其中,光納米壓印法由i)涂布硬化性樹脂層、ii)向硬化性樹脂層按壓模具、iii)硬化性樹脂層的光硬化及iv)自硬化性樹脂層剝離模具的四步驟所構成,于可通過此種簡單的工藝實現納米尺寸的加工的方面較優異。尤其是由于使用通過光照射進行硬化的光硬化性樹脂,故而圖案轉印步驟所耗費的時間較短,可期待高產能(throughput)。因此,不僅于半導體器件,亦于有機EL元件或LED等光學構件、MEMS、生物晶片等較多領域中期待實用化。
例如于有機EL元件(有機發光二極管)中,自陽極通過電洞注入層而進入的電洞與自陰極通過電子注入層而進入的電子分別被輸送至發光層,該等于發光層內的有機分子上進行再結合而激發有機分子,由此發射光。因此,于專利文獻1中得知,于使用有機EL元件作為顯示設備或照明裝置時,必須自元件表面高效率地提取來自發光層的光,為此,將具有成為繞射光柵的微細的凹凸圖案的基板設置于有機EL元件的光提取面。
且說,業界開始采用輕量且為可撓性并且可實現大型化的樹脂等膜基材代替較重、容易破裂且難以實現大面積化的玻璃基板作為有機EL元件的基材。然而,與玻璃基板相比,樹脂等膜基材的氣體阻隔性較差。有機EL元件由于存在因水分或氧氣而使亮度或發光效率等降低的情形,故而尤其于使用樹脂膜基材作為基材的情形時,為了防止由濕氣或氧氣等氣體所引起的劣化,而必須于基材上形成氣體阻隔層。例如于專利文獻2、3中記載有形成如下氣體阻隔層,其通過濺鍍法、真空蒸鍍法、離子鍍敷法、電漿CVD法等由無機膜形成。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1日本特開2006-236748號公報
專利文獻2日本特開2011-102042號公報
專利文獻3日本特開2013-253319號公報
發明內容
發明所欲解決的課題
業界期待通過如上所述般于有機EL元件上設置具有凹凸圖案的基板,而自有機EL元件高效率地提取光。又,亦期待通過在有機EL元件上設置具有優異的氣體阻隔性的層,而使有機EL元件長壽命化。就生產效率的觀點而言,較有利的是為了實現有機EL元件的高效率的光提取與長壽命化,而于氣體阻隔層表面設置凹凸圖案。然而,由于通過濺鍍等干式工藝而形成的無機膜為硬質,故而于公知的納米壓印法中亦存在無法于表面形成凹凸圖案的問題。
本發明的目的在于提供一種制造具備表面形成有凹凸圖案的氣體阻隔層等功能層的功能性構件的方法。又,本發明的另一目的在于提供一種具備通過干式工藝而形成且表面形成有凹凸圖案的膜的構件的制造方法。
解決課題的技術手段
依據本發明的第1樣式,提供一種具有凹凸圖案的構件的制造方法,其具有如下步驟:
于表面具有凹凸圖案的模具的上述凹凸圖案上形成第1膜的步驟;
于基材上形成第2膜的步驟;
通過使上述模具與上述基材重疊,將上述第1膜與上述第2膜接合的步驟;及
自與上述第2膜接合的上述第1膜將上述模具剝離的步驟。
上述具有凹凸圖案的構件的制造方法亦可進而具有如下步驟:于實施上述接合步驟前,于上述模具上的上述第1膜或上述基材上的上述第2膜上涂布接著劑。
上述具有凹凸圖案的構件的制造方法可進而具有于上述接合步驟之前,于上述模具上的上述第1膜及/或上述基材上的上述第2膜上形成其他膜的步驟。
依據本發明的第2樣式,提供一種具有凹凸圖案的構件的制造方法,其具有如下步驟:于表面具有凹凸圖案的模具的上述凹凸圖案上,通過干式工藝而形成第1膜的步驟;
于上述模具的上述第1膜側接合基材的步驟;及
將上述模具自上述第1膜剝離的步驟。
上述具有凹凸圖案的構件的制造方法亦可進而具有如下步驟:于實施上述接合步驟前,在接合于上述模具的上述第1膜側的上述基材的面上、或上述模具的第1膜側涂布接著劑。
上述具有凹凸圖案的構件的制造方法亦可進而具有如下步驟:于上述模具的上述凹凸圖案上所形成的上述第1膜上,通過干式工藝及/或濕式工藝而形成其他膜。
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