[發(fā)明專利]半導(dǎo)體集成電路有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201580040953.3 | 申請日: | 2015-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN106663658B | 公開(公告)日: | 2020-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 菅野博;澄田仁志;山路將晴 | 申請(專利權(quán))人: | 富士電機株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/8238 | 分類號: | H01L21/8238;H01L21/76;H01L21/822;H01L27/04;H01L27/08;H01L27/092 |
| 代理公司: | 11277 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 集成電路 | ||
實現(xiàn)半導(dǎo)體集成電路的可靠性提高。半導(dǎo)體集成電路(40)具備:第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體層(1c),其隔著絕緣層(1b)設(shè)置于支承基板(1a)上;第二導(dǎo)電型的第一阱區(qū)(2),其設(shè)置于半導(dǎo)體層(1c)的上部,且與絕緣層(1b)相離;第一導(dǎo)電型的第二阱區(qū)(3),其設(shè)置于第一阱區(qū)(2)的上部;以及第一導(dǎo)電型的分離區(qū)(5),其以包圍第一阱區(qū)(2)的方式設(shè)置于半導(dǎo)體層(1c)的上部,且與第一阱區(qū)(2)及絕緣層(1b)相離。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體集成電路,特別涉及一種有效應(yīng)用于對開關(guān)元件進行驅(qū)動的高耐壓IC等半導(dǎo)體集成電路的技術(shù)。
背景技術(shù)
主要在低容量的逆變器中,通過高耐壓IC(HVIC)對電力變換用橋電路的開關(guān)元件進行驅(qū)動。該高耐壓IC一般來說具備高端(high side)驅(qū)動電路、低端(low side)驅(qū)動電路、電平移位器(level shifter)、控制電路等。而且,該高耐壓IC根據(jù)從輸入端子輸入的信號,從輸出端子輸出使開關(guān)元件的柵極導(dǎo)通、截止來進行驅(qū)動的驅(qū)動信號。在電力變換用橋電路中,接收到來自高耐壓IC的信號的高端電路的開關(guān)元件進行動作,由此進行電力變換。
對高端電路進行驅(qū)動的高端驅(qū)動電路由作為絕緣柵型場效應(yīng)晶體管的p溝道MOSFET和n溝道MOSFET以互補的方式連接而成的CMOS(互補型MOS)電路構(gòu)成。p溝道MOSFET構(gòu)成在設(shè)置于p型半導(dǎo)體基板的上部的n型阱區(qū)。n溝道MOSFET構(gòu)成在設(shè)置于n型阱區(qū)的上部的p型阱區(qū)。高端驅(qū)動電路以VS電位為基準(zhǔn)電位、以VB電位為電源電位來進行動作,基于從電平移位電路接收到的信號來從輸出端子輸出驅(qū)動信號。VB電位是施加于高耐壓IC的最高電位,在未受噪聲影響的通常狀態(tài)下,通過自舉電容器等而被保持為比VS電位高15V左右。VS電位是作為電力變換用橋電路的高壓側(cè)開關(guān)元件與低壓側(cè)開關(guān)元件之間的連接點的輸出節(jié)點部的電位,在電力變換的過程中在0V至數(shù)百V之間變化,還有時變?yōu)樨摰碾娢弧?/p>
在這種高耐壓IC中,有時會被輸入由于開關(guān)元件的動作而產(chǎn)生的各種噪聲,因此在高耐壓IC的設(shè)計中,實現(xiàn)耐受住該噪聲以不引起誤動作、不能動作的噪聲耐量、從而確保高可靠性是很重要的。為了提高噪聲耐量,需要抑制寄生元件的動作,特別是,抑制高端電路形成區(qū)正下方(高壓側(cè)開關(guān)元件驅(qū)動電路周邊)的沿基板縱向形成的寄生元件的動作是很重要的。這是由于,基板縱向的寄生元件面積大而容易流過大電流。
此外,專利文獻1中公開了以下技術(shù):通過在p型半導(dǎo)體基板與n型半導(dǎo)體層之間設(shè)置n型高濃度埋入?yún)^(qū),來抑制寄生pnp晶體管的動作。另外,專利文獻2中公開了以下半導(dǎo)體裝置:能夠使用SOI基板來抑制由dv/dt浪涌引起的使寄生電容充放電的位移電流的產(chǎn)生。
專利文獻1:日本特開2004-47937號公報
專利文獻2:日本特開2011-103429號公報
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)半導(dǎo)體集成電路的可靠性提高的技術(shù)。
為了達到上述目的,本發(fā)明的一個方式所涉及的半導(dǎo)體集成電路具備:第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體層,其隔著絕緣層設(shè)置于支承基板上;第二導(dǎo)電型的第一阱區(qū),其設(shè)置于半導(dǎo)體層的上部,且與絕緣層相離;第一導(dǎo)電型的第二阱區(qū),其設(shè)置于第一阱區(qū)的上部;以及第一導(dǎo)電型的分離區(qū),其以包圍第一阱區(qū)的方式設(shè)置于半導(dǎo)體層的上部,且與第一阱區(qū)及絕緣層相離。
通過本說明書的描述和附圖,本發(fā)明的上述以及其它目的和新的特征會變得明確。
根據(jù)本發(fā)明,能夠?qū)崿F(xiàn)半導(dǎo)體集成電路的可靠性提高。
附圖說明
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





