[發(fā)明專利]放射性材料測定

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580040383.8
• 申請(qǐng)日: 2015-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN107076860B
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H·貝多
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索列丹斯弗萊西奈公司
• 主分類號(hào): G01T1/167
• 分類號(hào): G01T1/167;G01N33/24;G21F9/34
• 代理公司: 北京信諾創(chuàng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11728
• 代理人: 劉金峰

1.一種測定潛在放射性材料的方法，包括：

從場地上的材料塊中選擇多個(gè)樣本；

基于所述多個(gè)樣本中的每個(gè)樣本的總計(jì)數(shù)，在所述場地執(zhí)行活性測量，以及將所述活性測量與一個(gè)或更多個(gè)活性閾值進(jìn)行比較，以便對(duì)所述放射性材料進(jìn)行分類以進(jìn)行處置，其中所述一個(gè)或更多個(gè)活性閾值和/或活性測量基于假定參數(shù)集；

從所述多個(gè)樣本中的每y個(gè)樣本選擇樣本x，其中x<y；

在相同場地執(zhí)行對(duì)從所述樣本x發(fā)射的放射線的光譜測量；以及

在所述y個(gè)樣本離開所述場地以進(jìn)行處置之前，自動(dòng)確定所述光譜測量是否確證所述假定參數(shù)集；以及

當(dāng)針對(duì)所述樣本x的所述光譜測量未確證所述假定參數(shù)集時(shí)，獲得第一新參數(shù)集。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述活性測量和所述光譜測量同時(shí)執(zhí)行。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，在執(zhí)行所述光譜測量之后立即執(zhí)行自動(dòng)確定所述光譜測量是否確證所述假定參數(shù)集的步驟。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2中任一項(xiàng)所述的方法，進(jìn)一步包括：由人執(zhí)行以確定針對(duì)所述樣本x的所述光譜測量是否驗(yàn)證所述假定參數(shù)集的非自動(dòng)步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述非自動(dòng)步驟是在場外進(jìn)行的。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，進(jìn)一步包括：當(dāng)針對(duì)所述樣本x的所述非自動(dòng)步驟未驗(yàn)證所述假定參數(shù)集時(shí)，防止所述y個(gè)樣本離開所述場地。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，進(jìn)一步包括：當(dāng)針對(duì)所述樣本x的所述非自動(dòng)步驟未驗(yàn)證所述假定參數(shù)集時(shí)，獲得第二新參數(shù)集。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，每天至少執(zhí)行一次所述非自動(dòng)步驟。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，在所述光譜測量中獲得的光譜數(shù)據(jù)被傳輸?shù)浆F(xiàn)場外以供審查。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，在所述光譜測量中獲得的光譜數(shù)據(jù)被傳輸?shù)浆F(xiàn)場外以供在同一天進(jìn)行審查。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，在所述光譜測量中獲得的光譜數(shù)據(jù)被傳輸?shù)浆F(xiàn)場外以供實(shí)時(shí)地進(jìn)行審查。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，分類包括確定每個(gè)樣本是否安全離開所述場地。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，進(jìn)一步包括：當(dāng)針對(duì)所述樣本x的所述光譜測量未確證所述假定參數(shù)集時(shí)，防止所述y個(gè)樣本離開所述場地。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，包括：基于所述第一新參數(shù)集，使用一個(gè)或更多個(gè)新活性閾值繼續(xù)所述多個(gè)樣本的所述活性測量。

15.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，包括：基于所述第二新參數(shù)集，使用一個(gè)或更多個(gè)新活性閾值繼續(xù)所述多個(gè)樣本的所述活性測量。

16.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，所述活性測量基于總伽馬計(jì)數(shù)。

17.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，對(duì)于每個(gè)樣本，所述活性測量耗時(shí)小于30秒。

18.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，所述光譜測量包括：高分辨率伽瑪光譜分析，即HGRS分析。

19.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，對(duì)于每個(gè)樣本，所述光譜測量耗時(shí)5-15分鐘。

20.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，所述假定參數(shù)集包括假定放射性核素指紋。