[發明專利]通過X射線反射散射測量來測量樣本的方法和系統有效
| 申請號： | 201580015724.6 | 申請日： | 2015-01-16 |
| 公開（公告）號： | CN106164618B | 公開（公告）日： | 2021-07-27 |
| 發明（設計）人： | 希瑟·A·波伊斯;戴維·A·雷德;布魯諾·W·許勒爾;羅德尼·斯梅德特;杰弗里·T·范東 | 申請（專利權）人： | 諾威量測設備公司 |
| 主分類號： | G01B15/00 | 分類號： | G01B15/00;G01N23/223;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 梁麗超;陳鵬 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 通過 射線 反射 散射 測量 樣本 方法 系統 | ||
【說明書】：
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