[發明專利]成像裝置和方法有效
| 申請號: | 201580002726.1 | 申請日: | 2015-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN105764422B | 公開(公告)日: | 2019-01-29 |
| 發明(設計)人: | T·克勒;R·普羅克紹;B·J·布倫德爾;E·勒斯爾 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光穎;王英 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 裝置 方法 | ||
本發明涉及一種成像裝置和對應的成像方法。為了避免探測單元中的堆積效應的缺點,提出了一種成像裝置,其包括:輻射源(2),其用于將輻射從聚焦區(20)發射通過成像區域(5);探測單元(6),其用于探測來自所述成像區域(5)的輻射,所述探測單元包括防散射光柵(62)和探測器(61);機架(1),所述輻射源(2)和所述探測單元(6)被安裝到所述機架,并且所述機架允許所述輻射源(2)和所述探測單元(6)圍繞所述成像區域旋轉;以及控制器(9),其用于控制所述探測單元(6)以在圍繞所述成像區域旋轉期間在多個投影位置處探測輻射,并且用于操縱所述輻射源(2)和/或所述探測單元(6)的至少部分在第一投影位置(80)處的位置、設定和/或取向,使得與表示剩余投影位置的第二投影位置(80)相比,在所述第一投影位置處入射在所述探測器(61)上的輻射在更大程度上被所述防散射光柵(62)衰減。
技術領域
本發明涉及一種成像裝置和對應的成像方法,具體涉及用于CT(計算機斷層攝影)的成像裝置和成像方法。
背景技術
光子計數CT探測器遭受所謂的堆積(pile-up)效應。在非常高的通量(即撞擊在探測器上的輻射)的極端情況下,當探測器完全飽和并且根本不輸出任何計數時出現完全的癱瘓。遺憾的是,對于僅測量通過檢查對象(例如患者)的輻射束的非常小的射線長度的所有探測器像素,這始終會發生。換言之,所有的投影都可能被截斷,尤其是在輻射未穿透對象或僅穿透對象的薄的部分的兩側上被截斷。對于圖像的重建,這類截斷的投影是非常不希望的。具體而言,定量重建變得幾乎不可能。
已經做出了克服這種堆積效應和截斷的投影的問題的若干嘗試。例如,WO 2013/093726 A1公開了一種探測裝置,其包括堆積確定單元,堆積確定單元用于確定指示探測到的光子的探測信號脈沖是由堆積事件引起的還是由非堆積事件引起的,其中,探測值生成單元取決于探測信號脈沖并且取決于關于相應探測信號脈沖是由堆積事件引起還是由非堆積事件引起的確定來生成探測值。當生成探測值時,如果探測信號脈沖是由堆積事件引起的,則其可以被排除。這允許改善所生成的探測值的質量。
國際專利申請WO 2013/182928 A1公開了一種包括一個或多個處理器的CT系統,所述一個或多個處理器被編程為接收所生成的X射線數據并將接收到的圖像投影數據分解成在機架的不同取向處的多個元件的相對位置的指示。
發明內容
本發明的目的是提供一種成像裝置和對應的成像方法,所述成像裝置和成像方法提供用于克服由堆積效應和截斷的投影引起的問題的備選解決方案。
在本發明的第一方面中,提出了一種成像裝置,其包括:
-輻射源,其用于將輻射從聚焦區發射通過成像區域,
-探測單元,其用于探測來自所述成像區域的輻射,所述探測單元包括防散射光柵和探測器,
-機架,所述輻射源和所述探測單元被安裝到所述機架,并且所述機架允許所述輻射源和所述探測單元圍繞所述成像區域旋轉,以及
-控制器,其用于控制所述探測單元在圍繞所述成像區域旋轉期間在多個投影位置處探測輻射,并且用于操縱所述輻射源和/或所述探測單元的至少部分在第一投影位置處的位置、設定和/或取向,使得與表示剩余投影位置的第二投影位置相比,在所述第一投影位置處入射在所述探測器上的輻射在更大程度上被所述防散射光柵衰減。
在本發明的另一方面中,提出了一種對應的成像方法,包括:
-通過輻射源將輻射從聚焦區發射通過成像區域,
-通過探測單元來探測來自所述成像區域的輻射,所述探測單元包括防散射光柵和探測器,
-在輻射發射和探測期間使所述輻射源和所述探測單元圍繞所述成像區域旋轉,并且
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