[發明專利]成像裝置和方法

有效

• 申請號: 201580002726.1
• 申請日: 2015-09-22
• 公開（公告）號: CN105764422B
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發明（設計）人: T·克勒;R·普羅克紹;B·J·布倫德爾;E·勒斯爾
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 李光穎;王英

1.一種成像裝置，包括：

輻射源(2)，其用于將輻射從聚焦區(20)發射通過成像區域(5)，

探測單元(6)，其用于探測來自所述成像區域(5)的輻射，所述探測單元包括防散射光柵(62)和探測器(61)，

機架(1)，所述輻射源(2)和所述探測單元(6)被安裝到所述機架，并且所述機架允許所述輻射源(2)和所述探測單元(6)圍繞所述成像區域旋轉，以及

控制器(9)，其用于控制所述探測單元(6)以在圍繞所述成像區域旋轉期間在多個投影位置處探測輻射，其特征在于，所述控制器適于操縱所述輻射源(2)和/或所述探測單元(6)的至少部分在第一投影位置(80)處的位置、設定和/或取向，使得與表示剩余投影位置的第二投影位置(81)相比，在所述第一投影位置處入射在所述探測器(61)上的輻射在更大程度上被所述防散射光柵(62)衰減。

2.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述第一投影位置(80)圍繞所述成像區域分布。

3.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為控制所述輻射源(2)和/或所述探測單元(6)，或者控制所述輻射源和/或所述探測單元的至少部分，以在圍繞所述成像區域旋轉期間改變所述輻射源和/或所述探測單元或者所述輻射源和/或所述探測單元的至少部分在第一投影位置(80)處相對于彼此的位置和/或取向。

4.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為控制所述輻射源(2)或所述輻射源的至少部分，以與所述第二投影位置(81)相比，改變所述輻射源或所述輻射源的至少部分在所述第一投影位置處相對于所述探測單元(6)的相對位置和/或取向。

5.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為控制所述輻射源(2)以與所述第二投影位置(81)相比，改變所述輻射源在所述第一投影位置(80)處相對于所述探測器(61)的焦斑。

6.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為控制所述探測單元(6)或所述探測單元的至少部分，以與所述第二投影位置(81)相比，改變所述探測單元或所述探測單元的至少部分在所述第一投影位置(80)處相對于所述輻射源(2)的相對位置和/或取向。

7.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為控制所述防散射光柵(62)，以與所述第二投影位置(81)相比，改變所述防散射光柵的片晶在所述第一投影位置處的角度。

8.根據權利要求1所述的成像裝置，

還包括致動器(7、71、72)，所述致動器用于操縱所述輻射源(2)或所述輻射源的至少部分相對于所述探測單元(6)的相對位置和/或取向，并且/或者用于操縱所述探測單元(6)或所述探測單元的至少部分相對于所述輻射源(2)的相對位置和/或取向。

9.根據權利要求1所述的成像裝置，

還包括重建單元(10)，所述重建單元用于根據探測到的輻射來重建圖像。

10.根據權利要求9所述的成像裝置，

其中，所述重建單元(10)被配置為使用在所述第一投影位置處探測到的輻射來對從在第二投影位置處探測到的輻射獲得的截斷的投影進行數據外推。

11.根據權利要求1所述的成像裝置，

其中，所述控制器(9)被配置為操縱所述輻射源(2)和/或所述探測單元(6)的至少部分在第一投影位置(80)處的位置、設定和/或取向，所述第一投影位置合計為全部投影位置的大于0.1％且小于50％。

12.根據權利要求11所述的成像裝置，

其中，所述第一投影位置合計為全部投影位置的大于1％且小于25％。