[實用新型]聚焦離子束物理氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 201521142110.8
• 申請日: 2015-12-31
• 公開（公告）號: CN205275693U
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 孫嵩泉;郭祖華;朱向煒;葛懷慶
• 申請（專利權）人: 蚌埠雷諾真空技術有限公司
• 主分類號: C23C14/46
• 分類號: C23C14/46;C23C14/56
• 代理公司: 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102
• 代理人: 張建宏

1.聚焦離子束物理氣相沉積裝置，它具有一工藝腔，其特征在于：工藝腔與一靶材傳動腔及一基片傳動腔連通，靶材傳動腔、基片傳動腔分別與一裝靶腔及一裝片腔連通，工藝腔內設有靶托、基片架、掩模板以及具有聚焦模塊的離子源，靶材傳動腔、基片傳動腔內分別設有一真空機械手裝置，基片傳動腔還與一熱處理腔連通，熱處理腔中設有基片臺及電加熱裝置。

2.根據權利要求1所述的聚焦離子束物理氣相沉積裝置，其特征在于：聚焦模塊可以是靜電透鏡或四極透鏡或磁透鏡，或由它們中的任意兩個結合構成，或由它們三個結合構成。