[實用新型]太陽能電池制備系統

有效

• 申請號: 201521135687.6
• 申請日: 2015-12-30
• 公開（公告）號: CN205335279U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 于琨;張興亮;魏強;張魏征
• 申請（專利權）人: 光為綠色新能源股份有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/67
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄭小粵

1.一種太陽能電池制備系統，其特征在于，包括特征存儲模塊、第一分類 模塊、多個第一工藝處理模塊、第二分類模塊和多個第二工藝處理模塊；

所述特征存儲模塊，被配置為存儲預先檢測的基片的特征參數；

所述第一分類模塊與所述第二分類模塊均與所述特征存儲模塊通訊連接；

所述第一分類模塊設置在所述第一工藝處理模塊的上料口的前端，且被配 置為讀取所述特征參數中的第一特征參數，根據所述第一特征參數對所述基片 分類，并將不同類的所述基片輸送至不同的第一工藝處理模塊的上料口處；

不同的所述第一工藝處理模塊，被配置為對分類后的所述基片進行不同工 藝條件的第一工藝處理；

所述第二分類模塊設置在所述第一工藝處理模塊的下料口與所述第二工藝 處理模塊的上料口之間，且被配置為讀取所述特征參數中的第二特征參數，根 據所述第二特征參數對經過所述第一工藝處理后的所述基片進行再次分類，將 不同類的所述基片輸送至不同的所述第二工藝處理模塊的上料口處；

不同的所述第二工藝處理模塊，被配置為對再次分類后的所述基片進行不 同工藝條件的第二工藝處理。

2.根據權利要求1所述的太陽能電池制備系統，其特征在于，所述第一特 征參數包括線痕深度參數和電阻率參數；

所述第一分類模塊包括第一分類子裝置和第二分類子裝置；

所述第一工藝處理模塊包括制絨設備和擴散設備；

其中，所述第一分類子裝置位于所述制絨設備的上料口的前端，且被配置 為讀取所述線痕深度參數，根據所述線痕深度參數對所述基片進行第一分類， 并將經過第一分類后的所述基片輸送至不同的所述制絨設備的上料口處；

不同的所述制絨設備，被配置為對第一分類后的所述基片進行不同工藝條 件的制絨工藝處理；

所述第二分類子裝置設置在所述制絨設備的下料口與所述擴散設備的上料 口之間，且被配置為讀取所述根據所述電阻率參數對所述基片進行第二分類， 并將經過第二分類后的所述基片輸送至不同的所述擴散設備的上料口處；

不同的所述擴散設備，被配置為對第二分類后的所述基片進行不同工藝條 件的擴散工藝處理。

3.根據權利要求2所述的太陽能電池制備系統，其特征在于，所述第二分 類子裝置包括數據存儲模塊和比較分類模塊；

所述數據存儲模塊，被配置為存儲預設的第一電阻率范圍、第二電阻率范 圍、第三電阻率范圍和第四電阻率范圍；

所述比較分類模塊，被配置為將所述電阻率參數分別與所述第一電阻率范 圍、所述第二電阻率范圍、所述第三電阻率范圍和所述第四電阻率范圍進行比 較；并當所述電阻率參數位于所述第一電阻率范圍時，將相應的所述基片分為 第一等級；當所述電阻率參數位于所述第二電阻率范圍時，將相應的所述基片 分為第二等級；當所述電阻率參數位于所述第三電阻率范圍時，將相應的所述 基片分為第三等級；當所述電阻率參數位于所述第四電阻率范圍時，將相應的 所述基片分為第四等級。

4.根據權利要求1至3任一項所述的太陽能電池制備系統，其特征在于， 所述第二特征參數包括厚度參數；所述第二分類模塊包括第三分類子裝置；所 述第二工藝處理模塊包括鍍膜設備和燒結設備；

不同的所述鍍膜設備，被配置為對再次分類后的所述基片進行不同工藝條 件的鍍膜工藝處理；

所述第三分類子裝置設置在所述鍍膜設備的下料口與所述燒結設備的上料 口之間，且被配置為讀取所述厚度參數，根據所述厚度參數對經過所述鍍膜工 藝處理后的所述基片進行第三分類，并將經過第三分類后的所述基片輸送至不 同的所述燒結設備的上料口處；

不同的所述燒結設備，被配置為對第三分類后的所述基片進行不同工藝條 件的燒結工藝處理。