[實用新型]一種光刻膠噴頭的自動清洗裝置

有效

• 申請號: 201521127452.2
• 申請日: 2015-12-29
• 公開（公告）號: CN205341179U
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發明（設計）人: 呂耀安;翟繼鑫
• 申請（專利權）人: 無錫宏納科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05B15/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 張海英;徐鵬飛

技術領域

本實用新型涉及光刻技術領域，尤其涉及一種光刻膠噴頭的自動清洗裝置。

背景技術

在集成電路工藝制造中，晶體三極管、二極管、電容、電阻以及金屬層的各種物理部件在晶圓表面或表層內構成。這些部件通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留特征圖形的部分。光刻工藝(LithographicProcess)生產的目標是根據電路設計的要求，生成尺寸精確的特征圖形，并且在晶圓表面的位置正確且與其它部件(parts)的關聯正確。

光刻工藝是集成電路工藝制造的基本工藝中最為關鍵的一個，光刻工藝確定了器件的關鍵尺寸。在制程中各種污染物會對光刻的精準度造成影響，例如，在提供的晶圓表面涂覆光刻膠時，用于噴涂光刻膠的光刻膠噴頭勻速地在晶圓表面移動，并向晶圓表面均勻地噴涂光刻膠；光刻膠噴頭在噴涂光刻膠過程中，長時間處于光刻膠形成的噴霧環境中，其周圍會形成大量結晶顆粒，該結晶顆粒如果不及時清除，不慎掉落后續噴涂光刻膠的晶圓上，輕則造成光刻膠變形，重則引起晶圓劃傷問題，并且光刻工藝在一片晶圓的生產過程中要完成5層至20層甚至更多，故，結晶顆粒如不及時清理，產生的污染問題會進一步放大。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提出一種光刻膠噴頭的自動清洗裝置，可以自動對光刻膠噴頭進行沖洗，減少光刻膠在噴涂過程中引入的結晶雜質對光刻工藝造成的不良影響，提高光刻工藝的質量。

為達此目的，本實用新型采用以下技術方案：

一種光刻膠噴頭的自動清洗裝置，包括：清洗箱，其特征在于，所述清洗箱上部設置有清洗槽，所述清洗槽底部設置有檢測光刻膠噴頭的位置的位置傳感器、根據所述位置傳感器的檢測信號開啟或關斷動力泵的控制器，所述自動清洗裝置還包括位于所述清洗箱的內腔的清洗液儲存箱和沖洗管，所述動力泵的一端連接所述清洗液儲存箱，另一端連接所述沖洗管，所述沖洗管的出液口連接所述清洗槽。

其中，所述清洗槽與所述光刻膠噴頭的形狀相適應。

其中，所述沖洗管的出液口設置在所述清洗槽的內側面上。

其中，當所述光刻膠噴頭為圓臺形時，所述沖洗管的出液口有三個，均勻分布在所述清洗槽內側面同一高度的截面的圓周上。

其中，還包括連接所述清洗液儲存箱的入液管，所述入液管的入液口設置在所述清洗箱的側面。

其中，還包括將使用過后的清洗液排出清洗箱的排液管，所述排液管連接所述清洗槽，所述拍液管的出液口設置在所述清洗箱的底部。

其中，還包括將清洗過后的光刻膠噴頭烘干的烘干機，所述烘干機設置在所述清洗箱的上端。

本實用新型提供的技術方案帶來的有益效果：

本實用新型的光刻膠噴頭的自動清洗裝置，包括清洗箱，所述清洗箱上部設置有清洗槽，所述清洗槽底部設置有檢測光刻膠噴頭位置的位置傳感器、根據所述位置傳感器的檢測信號開啟或關斷動力泵的控制器，清洗液儲存箱和沖洗管，所述動力泵的一端連接所述清洗液儲存箱，另一端連接所述沖洗管；該裝置可以自動對光刻膠噴頭進行沖洗，減少光刻膠在噴涂過程中引入的結晶雜質對光刻工藝造成的不良影響，提高光刻工藝的質量。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例提供的光刻膠噴頭的自動清洗裝置的結構示意圖。

圖2是本實用新型實施例提供的光刻膠噴頭的自動清洗裝置的俯視圖。

圖3是本實用新型實施例提供的光刻膠噴頭的自動清洗裝置的清洗過程的控制系統框圖。

具體實施方式

參照圖1至圖3并通過具體實施方式來進一步說明本實用新型的技術方案。

一種光刻膠噴頭的自動清洗裝置，包括：清洗箱2，其特征在于，所述清洗箱2上部設置有清洗槽3，所述清洗槽3底部設置有檢測光刻膠噴頭1的位置的位置傳感器4、根據所述位置傳感器4的檢測信號開啟或關斷動力泵6的控制器5，所述自動清洗裝置還包括位于所述清洗箱的內腔的清洗液儲存箱7和沖洗管8，所述動力泵6的一端連接所述清洗液儲存箱7，另一端連接所述沖洗管8，所述沖洗管8的出液口9連接所述清洗槽3。

本實施例中，該光刻膠噴頭1的清洗裝置為一自動清洗系統，清洗裝置中內置有清洗液存儲箱7，光刻膠噴頭1由機械手等控制設備載入清洗槽3內，當位置傳感器4檢測到該光刻膠噴頭1與清洗槽3底部之間的距離達到預設距離時，向控制器輸5出信號，控制器5根據該信號開啟動力泵6，清洗液存儲箱7中的清洗液被動力泵6抽取出來，對光刻膠噴頭1進行沖洗。