[實用新型]負壓攪拌式反應釜

有效

• 申請號: 201521099364.6
• 申請日: 2015-12-23
• 公開（公告）號: CN205235922U
• 公開（公告）日: 2016-05-18
• 發明（設計）人: 劉玉嶺;顧張冰;王娟
• 申請（專利權）人: 天津晶嶺微電子材料有限公司
• 主分類號: B01J3/04
• 分類號: B01J3/04;B01J3/02
• 代理公司: 天津市三利專利商標代理有限公司 12107
• 代理人: 楊紅

技術領域

本實用新型屬于反應釜，尤其涉及一種用于制備化學機械拋光(CMP) 堿性拋光液的負壓攪拌式反應釜。

背景技術

隨著微電子技術的發展，集成度越來越高，CMP過程在集成電路制備 過程中越來越重要，拋光液的質量和潔凈度顯的尤為重要。目前，制備用 于CMP堿性拋光液的反應釜一般都采用機械攪拌的反應釜。反應釜由釜體、 釜蓋、夾套、攪拌器、傳動裝置、軸封裝置、支承等組成。攪拌槳在反應 釜內通過外部電機的帶動對反應液攪拌。雖然反應液能夠被充分攪拌，但 容易對拋光液造成污染，尤其是機油的污染；市場銷售反應釜的下封頭與 釜體之間的角壁有死角，攪拌過程中在角壁和側壁上容易產生拋光液滯留 層，影響拋光液的質量和潔凈度。在生產堿性拋光液時，反應液由酸性轉 變為堿性時需要突變過程，以防止在pH＝6-8危險區迅速凝膠。若邊界滯 留層的pH值變化緩慢，此時拋光液極易產生凝膠，導致拋光液廢品率升 高，甚至全部失效。用于制備化學機械拋光堿性拋光液的負壓攪拌式反應 釜屬于非標設備，亟待需要在拋光液的制備中控制滯留層的反應釜。

實用新型內容

本實用新型是為了克服現有技術中的不足，提供一種負壓攪拌式反應 釜，適用于制備化學機械拋光(CMP)堿性拋光液的負壓攪拌，防止制備 過程中的出現凝膠和有效去除滯留層。

本實用新型為實現上述目的，通過以下技術方案實現，一種負壓攪拌 式反應釜，包括筒體和上、下封頭構成整體反應釜結構，其特征是：所述 上封頭設有真空泵接口，所述下封頭設有氣流噴射口，所述下封頭縱向截 面形狀呈橢圓形，所述下封頭上方間隔固接有曲面擋板，所述曲面擋板與 筒體及下封頭形成的角壁之間構成氣流引導區。

所述真空泵接口置于上封頭中央。

所述氣流噴射口置于下封頭中央。

所述曲面擋板縱向截面形狀呈橢圓形并與下封頭形狀匹配，曲面擋板 的橢圓形長軸和短軸＜下封頭橢圓形長軸和短軸。

所述曲面擋板的長軸和短軸尺寸小于下封頭橢圓形的長軸和短軸尺 寸為20mm。

有益效果:與現有技術相比，本實用新型負壓攪拌式反應釜，在反應釜 內部沒有攪拌槳攪拌，采用內部抽真空的方式形成負壓，使內部自行產生 渦流攪拌，并在底部安裝一個側壁噴氣的曲面擋板，拋光液在調節pH值 時，通過高速的氣流破環了側壁和角壁上滯留層的形成，并阻止凝膠現象 產生。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖中：1、筒體，2、3、上、下封頭，4、真空泵接口，5、氣流噴射口，6、 曲面擋板，7、角壁，8、氣流引導區。

具體實施方式

以下結合較佳實施例，對依據本實用新型提供的具體實施方式詳述如 下：實施例

詳見附圖，本實施例提供了一種負壓攪拌式反應釜，包括筒體1和上、 下封頭2、3構成整體反應釜結構，所述上封頭設有真空泵接口4，所述真 空泵接口置于上封頭中央。所述下封頭設有氣流噴射口5，所述氣流噴射 口置于下封頭中央。所述下封頭縱向截面形狀呈橢圓形，所述下封頭上方 間隔固接有曲面擋板6，所述曲面擋板與筒體及下封頭形成的角壁7之間 構成氣流引導區8，曲面擋板縱向截面形狀呈橢圓形并與下封頭形狀匹配。 曲面擋板上半徑為300的圓上均勻取三點，與這三點在底面上的垂直投影 用細柱狀玻璃連接固定.所述曲面擋板的橢圓形長軸和短軸＜下封頭橢圓 形長軸和短軸。所述曲面擋板的長軸和短軸尺寸小于下封頭橢圓形的長軸 和短軸尺寸為20mm。以保證形成氣流引導區，引導氣流通過。

詳見圖1，負壓攪拌式反應釜的真空泵接口接外部真空泵，對反應釜 內部抽真空至負壓，使得拋光液產生攪拌渦流，形成負壓攪拌。在攪拌過 程中為了避免在角壁和側壁產生拋光液滯留層，尤其是在pH值由酸性變 到堿性的過度階段，難以pH值突變產生凝膠。當氣流由氣流噴射口進入 時，由于曲面擋板的引導作用，使得角壁和側壁表面的滯留層遭到沖擊而 被破壞。整個攪拌過程中沒有外部污染的引入，而且滯留層不能形成，杜 絕了凝膠現象，保證了拋光液的質量和潔凈度。

本實施例，采用標準橢圓封頭的底面直徑和側面圓柱筒體的底面直徑 一致，為1200mm，其高度為300mm。曲面擋板的底面直徑為1180mm，高度 為290mm。氣流噴射口的孔徑為30mm。

上述參照實施例對該一種負壓攪拌式反應釜進行的詳細描述，是說明 性的而不是限定性的，可按照所限定范圍列舉出若干個實施例，因此在不 脫離本實用新型總體構思下的變化和修改，應屬本實用新型的保護范圍之 內。