[實(shí)用新型]一種AlInP基藍(lán)光探測器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201521071523.1 | 申請日: | 2015-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN205211780U | 公開(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李國強(qiáng);張子辰;林志霆;陳淑琦 | 申請(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/101 | 分類號: | H01L31/101;H01L31/0304 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245 | 代理人: | 陳文姬 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 alinp 基藍(lán)光 探測器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及可見光探測器,特別涉及一種AlInP基藍(lán)光探測器。
背景技術(shù)
隨著移動設(shè)備對無線頻譜的需求越來越高,造成網(wǎng)絡(luò)頻譜資源相對短缺。 隨著可見光通信技術(shù)的逐漸興起,不僅能有效的緩解網(wǎng)絡(luò)頻譜枯竭的困境,而 且能實(shí)現(xiàn)綠色通信。
現(xiàn)有的可見光探測器主要由硅鍺半導(dǎo)體為主要材料制作而成其具有數(shù)據(jù)傳 輸速率高、無有害射頻輻射、安全性好等特點(diǎn),但是由于響應(yīng)峰值與主光源發(fā) 光波長(藍(lán)光波段)不一致導(dǎo)致探測器靈敏度低,噪聲大;另外,Si本身的禁 帶寬度較窄,對藍(lán)光響應(yīng)度不高,需要加濾波片,也從而增加了成本、增大體 積、減弱入射光信號等。因此,為了目前產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求,急切需要設(shè)計一種針 對藍(lán)光波段的新型探測器。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點(diǎn)與不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種 AlInP基藍(lán)光探測器,可以實(shí)現(xiàn)直接對藍(lán)光波段電磁波的針對性吸收,而不需要 額外添加濾波片。
本實(shí)用新型的目的通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種AlInP基藍(lán)光探測器,包括依次設(shè)置的基底、第一n-AlInP層、第一 p-AlInP層、第二n-AlInP層、第二p-AlInP層、第三p-AlInP層;
還包括SiO2層、第一Au電極和第二Au電極;所述SiO2層與第一p-AlInP 層、第二n-AlInP層、第二p-AlInP層的側(cè)面相接觸;所述SiO2層還與第一n-AlInP 層的露出的表面相接觸;所述第一Au電極設(shè)于SiO2層的表面;所述第二Au電 極設(shè)于第一n-AlInP層的露出的表面。
所述基底的厚度為200~500μm;第一n-AlInP層的厚度為0.1~10μm;第一 p-AlInP層的厚度為0.1~20μm;第二n-AlInP層的厚度為0.1~10μm;第二p-AlInP 層的厚度為0.1~20μm;第三p-AlInP層的厚度為0.1~10μm;SiO2層的厚度為 0.1~20μm;第一Au電極的厚度為0.5~10μm;第二Au電極的厚度為0.5~10μm。
所述基底為GaAs基底。
所述的AlInP基藍(lán)光探測器的制備方法,包括以下步驟:
(1)將基底在400~700℃下預(yù)處理;
(2)在基底上采用金屬有機(jī)化合物氣相外延技術(shù)生長第一n-AlInP層,硅 摻雜濃度為1×1018~9×1018cm-3;
(3)在第一n-AlInP層上采用金屬有機(jī)化合物氣相外延技術(shù)生長第一 p-AlInP層,鈹摻雜濃度為1×1011~9×1011cm-3;
(4)在第一p-AlInP層上采用金屬有機(jī)化合物氣相外延技術(shù)生長第二n- AlInP層;硅摻雜濃度約為1×1017~9×1017cm-3;
(5)在第二n-AlInP層上采用金屬有機(jī)化合物氣相外延技術(shù)生長第二 p-AlInP層,鈹摻雜濃度為1×1011~9×1011cm-3;
(6)在第二p-AlInP層上采用金屬有機(jī)化合物氣相外延技術(shù)生長第三 p-AlInP層,鈹摻雜濃度為1×1018~9×1018cm-3;
(7)采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)沉積SiO2層用作絕緣層,所述 SiO2層與第一p-AlInP層、第二n-AlInP層、第二p-AlInP層的側(cè)面相接觸,還 與第一n-AlInP層露出的表面相接觸;
(8)在SiO2層的表面采用電子束蒸發(fā)制備Au層作為第一Au電極;
(9)在第一n-AlInP層露出的表面上采用電子束蒸發(fā)制備Au層作為第二 Au電極。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)和有益效果:
1.本實(shí)用新型的AlInP基藍(lán)光探測器,采用了AlInP材料作為吸收材料,主 要針對藍(lán)光波段電磁波進(jìn)行有效吸收。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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