[實用新型]一種AlInP基藍光探測器有效
| 申請號: | 201521071523.1 | 申請日: | 2015-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN205211780U | 公開(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發明(設計)人: | 李國強;張子辰;林志霆;陳淑琦 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | H01L31/101 | 分類號: | H01L31/101;H01L31/0304 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人: | 陳文姬 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 alinp 基藍光 探測器 | ||
1.一種AlInP基藍光探測器,其特征在于,包括依次設置的基底、第一 n-AlInP層、第一p-AlInP層、第二n-AlInP層、第二p-AlInP層、第三p-AlInP 層;
還包括SiO2層、第一Au電極和第二Au電極;所述SiO2層與第一p-AlInP 層、第二n-AlInP層、第二p-AlInP層的側面相接觸;所述SiO2層還與第一n-AlInP 層的露出的表面相接觸;所述第一Au電極設于SiO2層的表面;所述第二Au電 極設于第一n-AlInP層的露出的表面。
2.根據權利要求1所述的AlInP基藍光探測器,其特征在于,所述基底的 厚度為200~500μm;第一n-AlInP層的厚度為0.1~10μm;第一p-AlInP層的厚度 為0.1~20μm;第二n-AlInP層的厚度為0.1~10μm;第二p-AlInP層的厚度為 0.1~20μm;第三p-AlInP層的厚度為0.1~10μm;SiO2層的厚度為0.1~20μm;第 一Au電極的厚度為0.5~10μm;第二Au電極的厚度為0.5~10μm。
3.根據權利要求1所述的AlInP基藍光探測器,其特征在于,所述基底為 GaAs基底。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華南理工大學,未經華南理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201521071523.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:用于建筑開口的遮蓋物
- 下一篇:抗微生物的聚合物組合物及其用途
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





