[實用新型]具有凸塊的芯片有效
| 申請號: | 201521068511.3 | 申請日: | 2015-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN205177823U | 公開(公告)日: | 2016-04-20 |
| 發明(設計)人: | 殷原梓 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(天津)有限公司;中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/498 | 分類號: | H01L23/498 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 300385 天津市西青*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 芯片 | ||
技術領域
本實用新型涉及集成電路制造技術領域,尤其涉及一種具有凸塊的芯片。
背景技術
為了進行封裝,每個晶圓(wafer)可以被裁切成多個晶粒(die),晶粒上 必須具有凸塊(bump),即形成具有凸塊的芯片(chip),芯片通過凸塊與基板 進行封裝。晶粒上形成凸塊的過程中,首先,在晶粒上形成若干個金屬接觸墊, 金屬接觸墊之間以鈍化層分隔,再在金屬接觸墊沉積金屬銅以及焊錫,并通過 回焊工藝上形成金屬的凸塊結構。
然而,發明人發現,與基板封裝之后的芯片,在實際使用過程中由于發熱 等原因溫度通常會升高,由于芯片與基板之間存在熱膨脹系數的差異,這就導 致基板產生的形變大于芯片的形變,從而導致基板會對芯片上的凸塊產生應力, 使得凸塊彎曲,影響芯片的使用壽命。
實用新型內容
本實用新型的目的在于,提供一種具有凸塊的芯片,解決現有技術中凸塊 受到應力產生損傷的問題,提高芯片的性能。
為解決上述技術問題,本實用新型提供一種具有凸塊的芯片,包括:
芯片基底,所述芯片基底包括位于所述芯片基底邊緣的第一區域;
形成于所述第一區域中陣列分布的第一凸塊,相鄰的所述第一凸塊之間通 過一金屬線連接,其中,所述第一凸塊包括位于所述芯片基底上的第一焊墊、 圍繞在所述第一焊墊周圍的第一保護環、位于所述第一焊墊上的第一銅塊以及 位于所述第一保護環上的第二保護環,所述第一焊墊與所述第一保護環之間填 充有第一絕緣層,所述第二保護環與所述第一銅塊之間以及相鄰的所述第一凸 塊之間填充有第一模膠。
可選的,所述第一焊墊為鋁金屬焊墊,所述第一焊墊為長方體,所述第一 焊墊的高度為3μm~6μm。
可選的,所述第一銅塊包括與所述第一焊墊相連的第一柱體以及位于所述 第一柱體上的第二柱體,所述第一柱體與所述第二柱體的高度之和為 20μm~25μm,其中,所述第一柱體和所述第二柱體均為圓柱體,所述第二柱體 的直徑大于所述第一柱體的直徑,所述第二柱體的直徑為50μm~60μm。
可選的,所述第一保護環為鋁金屬環,所述第一保護環的高度為3μm~6μm, 所述第一保護環的寬度為10μm~15μm。
可選的,所述第二保護環為銅金屬環,所述第二保護環的高度為 20μm~25μm,所述第二保護環的寬度為5μm~10μm。
可選的,所述第一凸塊呈方形分布或六邊形分布。
可選的,所述芯片基底還包括位于所述芯片基底邊緣或中心的第二區域, 所述第二區域中形成有陣列分布的第二凸塊,相鄰的所述第一凸塊的間距大于 所述相連的所述第二凸塊的間距。
可選的,所述第一凸塊的間距是所述第二凸塊的間距的2~3倍。
可選的,所述第二凸塊呈方形分布或六邊形分布。
可選的,所述第二凸塊包括位于所述芯片基底上的第二焊墊、位于所述第 二焊墊上的第二銅塊,所述第二焊墊的周圍填充有第二絕緣層,相鄰的所述第 二凸塊之間填充有第二模膠。
可選的,所述第二焊墊為鋁金屬焊墊,所述第二焊墊為長方體,所述第二 焊墊的高度為3μm~6μm。
可選的,所述第二銅塊包括與所述第二焊墊相連的第三柱體以及位于所述 第三柱體上的第四柱體,所述第三柱體與所述第四柱體的高度之和為 20μm~25μm,其中,所述第三柱體和所述第四柱體均為圓柱體,所述第四柱體 的直徑大于所述第三柱體的直徑,所述第四柱體的直徑為50μm~60μm。
與現有技術相比,本實用新型提供的具有凸塊的芯片,位于芯片基底邊緣 的第一區域中設置的第一凸塊包括第一焊墊、第一銅塊、第一保護環以及第二 保護環,第一保護環和第二保護環的圍繞在所述第一銅塊的周圍。本實用新型 的芯片在使用或者測試過程中,由于第一保護環和第二保護環圍繞在第一銅塊 的周圍,可以分散基板對第一凸塊的應力,防止第一凸塊由于應力過大而損傷。 并且,相鄰的第一凸塊之間通過一金屬線連接,使得芯片上的第一凸塊均連接 在一起進一步將基板對第一凸塊的應力分散到每一個第一凸塊上,使得單個的 第一凸塊受到的應力大大減小,從而降低第一凸塊由于應力損傷的可能性,提 高芯片的性能,延長芯片的使用壽命。
附圖說明
圖1為本實用新型一實施例中的芯片上第一區域和第二區域的位置圖;
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