[實用新型]一種化學氣相沉積裝置

有效

• 申請號: 201521042165.1
• 申請日: 2015-12-15
• 公開（公告）號: CN205188435U
• 公開（公告）日: 2016-04-27
• 發明（設計）人: 曹玉霞
• 申請（專利權）人: 唐山學院
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 北京迎碩知識產權代理事務所(普通合伙) 11512
• 代理人: 張群峰;呂良

技術領域

本實用新型涉及一種化學氣相沉積裝置，尤其涉及采用液相前驅 體作為原料的化學氣相沉積裝置。

背景技術

化學氣相沉積是一種制備材料的氣相生長方法，它是把一種或幾 種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基材的反應室， 借助空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態薄膜的工藝技術。

在制備某些薄膜或涂層時，例如制備碳化硅薄膜，需要采用液相 物質三氯甲基硅烷作為初始原料。這種情況下，就需要對原有的以氣 相物質作為初始原料的沉積裝置進行改進。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種化學氣相沉積裝置，能夠采用液 相前驅體作為原料來進行氣相沉積薄膜或涂層。

根據本實用新型的化學氣相沉積裝置，包括加熱爐，加熱爐具有 密閉的爐膛和設置在爐膛外周的加熱體，爐膛中部設置有熱電偶，爐 膛具有氣體入口和氣體出口；還包括并聯的載氣流路和稀釋氣流路， 二者都與爐膛的氣體入口連接；載氣流路中設置有汽化器，液相原料 在汽化器中汽化后由載氣攜帶進入加熱爐中進行氣相沉積。

優選情況下，汽化器包括控溫油浴鍋。

優選情況下，載氣流路和稀釋氣流路中分別設置有氣體流量計。

優選情況下，還包括尾氣凈化裝置，與爐膛的氣體出口連接。

優選情況下，還包括位于爐膛中的基體支撐件。

優選情況下，還包括控制器，用來控制加熱爐溫度和氣體流量。

根據本實用新型的化學氣相沉積裝置，能夠采用液相前驅體作 為原料來進行氣相沉積薄膜或涂層；結構簡單，操作方便。

附圖說明

圖1為根據本實用新型的化學氣相沉積裝置的整體示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步描述。本領域技術人員應當 理解，以下描述僅用于解釋本實用新型而非用于對其作出任何限制。

參見圖1，根據本實用新型的化學氣相沉積裝置包括主要加熱爐 1、控制器2、載氣流路14和稀釋氣流路13。

加熱爐1具有密閉的爐膛6，在爐膛6外周設置有加熱體3，加 熱體3外周設置有保溫層17。爐膛6通常為豎直設置，中部設置有 熱電偶8，爐膛6具有氣體入口15和氣體出口16。爐膛6中設置有 基體支撐件4，用來支撐待沉積的基體5?；w5可以多層布置，每 層之間設置有氣體分布板。

載氣流路14和稀釋氣流路13并聯設置，二者的一端都與氣源連 接，二者的另一端都與爐膛6的氣體入口15連接。載氣流路14和稀 釋氣流路13中分別設置有氣體流量計12和11。為了準確控制氣體 流量，氣體流量計12和11優選采用質量流量計。載氣流路14中設 置有汽化器9，汽化器9可以是控溫油浴鍋，裝在原料容器18中的 液相原料在控溫油浴鍋中進行恒溫汽化，然后由載氣攜帶進入加熱爐 1中，并通過稀釋氣流路11向加熱爐1中通入適量的稀釋氣，混合 后在加熱爐1中發生氣相沉積反應，從而在基體5的表面沉積薄膜或 涂層。

控制器2中設置有溫度控制儀10，溫度控制儀10與熱電偶8連 接。通過溫度控制儀10來設定和調節加熱爐1中的溫度。另外，氣 體流量計12和11也設置在控制儀2上，分別用來調節載氣和稀釋氣 的流量。

根據本實用新型的化學氣相沉積裝置還可以包括尾氣凈化裝置 7，尾氣凈化裝置7與爐膛6的氣體出口16連接，用來對反應后的尾 氣進行凈化處理。