[實(shí)用新型]一種鍍膜膜厚監(jiān)測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201521041410.7 | 申請日: | 2015-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN205373621U | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周東平 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B7/06 | 分類號: | G01B7/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)婁*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍膜 監(jiān)測 裝置 | ||
1.一種鍍膜膜厚監(jiān)測裝置,其特征在于,包括:擋板(1),設(shè)于擋板上的通孔(2),第一晶振(3),第二晶振(4),其中,第一晶振與第二晶振的監(jiān)測位置相同,通孔處為監(jiān)測位置,第一晶振在監(jiān)測位置被鍍膜時,遮擋第二晶振;當(dāng)?shù)谝痪д癖诲兡さ揭欢ǖ暮穸群?,第一晶振被移離而第二晶振被移到監(jiān)測位置,對膜厚進(jìn)行連續(xù)監(jiān)測。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜膜厚監(jiān)測裝置,其特征在于,所述第一晶振位于第二晶振左側(cè),當(dāng)?shù)谝痪д癖诲兡さ揭欢ê穸群螅瑑蓚€晶振被同時移向左側(cè),第二晶振在通孔處被鍍膜,開始對膜厚進(jìn)行監(jiān)測,而第一晶振被遮擋并停止工作。
3.如權(quán)利要求2所述的鍍膜膜厚監(jiān)測裝置,其特征在于,所述通孔尺寸與所述第一晶振或第二晶振相對應(yīng)。
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