[實用新型]一種均勻加熱的烹飪鍋及其烹飪裝置

有效

• 申請號: 201521014332.1
• 申請日: 2015-12-08
• 公開（公告）號: CN205285961U
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發明（設計）人: 朱澤春;王翔;祝峰;鄒凌峰
• 申請（專利權）人: 九陽股份有限公司
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00;A47J36/00;A47J36/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種均勻加熱的烹飪鍋，所述烹飪鍋內外表面之間形成封閉的傳導腔，所述傳導腔與所述烹飪鍋一體成型或者分體成型，所述傳導腔內有超導介質，其特征在于，所述烹飪鍋包括底壁，所述傳導腔位于所述底壁之外或者所述傳導腔延伸到所述底壁部分區域。

2.如權利要求1所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述傳導腔與所述烹飪鍋分體成型，所述烹飪鍋包括本體和傳導罩，所述傳導罩與所述本體固定連接以形成所述傳導腔。

3.如權利要求2所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述傳導罩位于所述本體的外部，所述傳導罩焊接固定到所述本體上。

4.如權利要求1所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述傳導腔上端的截面積小于傳導腔中間的截面積。

5.如權利要求1所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述超導介質的體積與所述傳導腔的體積之比為5/1000-1/5。

6.如權利要求1-5之一所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述烹飪鍋還包括側壁、連接底壁和側壁的過渡部，所述傳導腔的下端位于所述過渡部。

7.如權利要求1-5之一所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述超導介質為超導液。

8.如權利要求1-5之一所述均勻加熱的烹飪鍋，其特征在于，所述烹飪鍋還包括把手，所述傳導腔上端延伸到把手處并部分傳導腔位于把手內側。

9.一種烹飪裝置，其特征在于，所述烹飪裝置包括加熱裝置和如權利要求1-8之一所述均勻加熱的烹飪鍋，所述加熱裝置與所述傳導腔在水平面的投影部分重疊或者所述加熱裝置鄰近所述傳導腔設置，所述加熱裝置對烹飪鍋未設有傳導腔的至少部分底壁加熱。

10.如權利要求9所述的烹飪裝置，其特征在于，所述加熱裝置與所述傳導腔部分重疊，所述傳導腔與所述加熱裝置在水平面的投影重疊的徑向寬度為5-30mm。