[實(shí)用新型]一種電解銅箔用全襯鈦陽(yáng)極槽裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520944509.1
• 申請(qǐng)日: 2015-11-24
• 公開（公告）號(hào): CN205133745U
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉鵬;李文孝;楊芬;羅婷;王濤;蘇曉紅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安航天源動(dòng)力工程有限公司
• 主分類號(hào): C25D1/04
• 分類號(hào): C25D1/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于電解銅箔技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種電解銅箔用全襯鈦陽(yáng)極槽裝 置。

背景技術(shù)

電解銅箔是我國(guó)信息產(chǎn)業(yè)重要的電子材料之一，主要應(yīng)用于PCB、CCL、FCCL 等電子行業(yè)中。隨著信息產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，對(duì)電解銅箔的要求，無論是品質(zhì)上， 還是數(shù)量上均有很大提高，國(guó)家把高質(zhì)量電解銅箔列為“十五”規(guī)劃中重點(diǎn)開 發(fā)產(chǎn)品。全襯鈦陽(yáng)極槽裝置作為生產(chǎn)電解銅箔的核心設(shè)備，即是生箔機(jī)的陽(yáng)極 組件，同時(shí)也是盛液組件，生箔機(jī)最重要的電解沉積過程就在陽(yáng)極槽內(nèi)完成。 其技術(shù)要點(diǎn)集中體現(xiàn)在電解液流場(chǎng)、溫度場(chǎng)、濃度場(chǎng)和陰陽(yáng)極間的電場(chǎng)的均勻 性和穩(wěn)定性。

國(guó)內(nèi)傳統(tǒng)的陽(yáng)極槽為塑料(PVC或PP)焊接結(jié)構(gòu)，內(nèi)置Pb-Ag陽(yáng)極，其主 要缺點(diǎn)如下：

1)首先Pb-Ag陽(yáng)極為可溶性陽(yáng)極，隨著使用時(shí)間的延長(zhǎng)，這種材質(zhì)腐蝕 越來越多，陽(yáng)極表面的鉛元素在電解過程中產(chǎn)生不均勻的溶解，不但使極距增 大、槽電壓上升、浪費(fèi)電能，而且極距的不均勻消耗直接影響銅箔厚度的均勻 性和產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。

其次，腐蝕生成的殘留物硫酸鉛剝落后懸浮在電解液中，容易夾雜到銅箔 中，產(chǎn)生夾雜和針孔。

2)塑料材質(zhì)槽體因耐熱性差、易老化、變形等諸多缺點(diǎn)，直接影響電解 設(shè)備和陽(yáng)極的精度。

3)集中式供液和開放式流場(chǎng)使陽(yáng)極間的電流沉積區(qū)電解液流場(chǎng)參數(shù)完全 不可控，給毛箔的質(zhì)量控制帶來很大的困難和不確定性。也使陰極輥的浸漬率 (電解沉積區(qū)面積的比例)<40％，生產(chǎn)效率低下。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種電解銅箔用全襯鈦陽(yáng)極槽裝 置，有效解決了電解液流場(chǎng)、溫度場(chǎng)、濃度場(chǎng)和陰陽(yáng)極間的電場(chǎng)的均勻性和穩(wěn) 定性問題，保證電解銅箔品質(zhì)的可靠性和高效性。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種電解銅箔用全襯鈦陽(yáng)極槽裝置，包括：一支撐整個(gè)裝置的支架，一包 覆于裝置最外層的塑料板，以及一與塑料板相鄰設(shè)置的鈦襯板，

還包括一位于裝置中部的反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔包括一位于頂部的作為陰極 的陰極輥，以及一位于下端的作為陽(yáng)極的陽(yáng)極板，所述陽(yáng)極板下發(fā)還設(shè)置有密 封墊。

在本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述裝置還包括位于反應(yīng)腔下方的極 間均勻流動(dòng)裝置，該極間均勻流動(dòng)裝置使電解液沿陽(yáng)極間均勻流動(dòng)。

通過上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是：

1)高精度不溶性Ti陽(yáng)極使陰陽(yáng)極距保持不變，在節(jié)能的同時(shí)極大的提高 了銅箔的厚度和內(nèi)在質(zhì)量穩(wěn)定性。

2)槽內(nèi)過流表面全部采用Ti材覆襯，耐腐蝕、壽命長(zhǎng)、密封性好。

3)槽體外部用不銹鋼支撐，結(jié)構(gòu)合理，穩(wěn)定性可靠。

4)極間均勻流動(dòng)裝置和邊部密封裝置使電解液沿極間均勻流動(dòng)，流量參 數(shù)可調(diào)，保證了銅箔厚度的均勻性，解決了6μm～12μm超薄銅箔的穩(wěn)定生產(chǎn) 和撕邊等技術(shù)難題。同時(shí)使陰極輥浸漬率提高到50％以上，大大提高了單機(jī)生 產(chǎn)效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì) 實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面 描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來 講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白 了解，下面結(jié)合具體圖示，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。

參照?qǐng)D1，一種電解銅箔用全襯鈦陽(yáng)極槽裝置，包括：一支撐整個(gè)裝置的 支架7，一包覆于裝置最外層的塑料板1，以及一與塑料板相鄰設(shè)置的鈦襯板2，

還包括一位于裝置中部的反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔包括一位于頂部的作為陰極 的陰極輥4，以及一位于下端的作為陽(yáng)極的陽(yáng)極板6，所述陽(yáng)極板下發(fā)還設(shè)置 有密封墊5。裝置還包括位于反應(yīng)腔下方的極間均勻流動(dòng)裝置8，該極間均勻 流動(dòng)裝置使電解液沿陽(yáng)極間均勻流動(dòng)，保證金屬陽(yáng)離子濃度均勻。