[實(shí)用新型]一種電解銅箔用全襯鈦陽極槽裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201520944509.1 | 申請日： | 2015-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN205133745U | 公開（公告）日： | 2016-04-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 葉鵬;李文孝;楊芬;羅婷;王濤;蘇曉紅 | 申請（專利權(quán)）人： | 西安航天源動力工程有限公司 |
| 主分類號： | C25D1/04 | 分類號： | C25D1/04 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 710100 陜西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 電解 銅箔 用全襯鈦 陽極 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種電解銅箔用全襯鈦陽極槽裝置，其特征在于，包括：一支撐整個裝 置的支架，一包覆于裝置最外層的塑料板，以及一與塑料板相鄰設(shè)置的鈦襯板，
還包括一位于裝置中部的反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔包括一位于頂部的作為陰極 的陰極輥，以及一位于下端的作為陽極的陽極板，所述陽極板下發(fā)還設(shè)置有密 封墊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電解銅箔用全襯鈦陽極槽裝置，其特征在于， 所述裝置還包括位于反應(yīng)腔下方的極間均勻流動裝置，該極間均勻流動裝置使 電解液沿陽極間均勻流動。
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