[實用新型]一種用于檢測曝光系統光軸垂直度的裝置

有效

• 申請號: 201520928287.4
• 申請日: 2015-11-20
• 公開（公告）號: CN205156878U
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發明（設計）人: 陸敏婷
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備有限公司
• 主分類號: G01B11/26
• 分類號: G01B11/26
• 代理公司: 合肥天明專利事務所 34115
• 代理人: 婁岳;奚華保

技術領域

本實用新型涉及半導體直寫曝光技術領域，具體涉及一種用于檢測曝光系統光軸垂直度的裝置。

背景技術

成像光路光軸垂直度的檢測是半導體直寫曝光設備性能調試的重要組成部分，良好的成像光路光軸垂直度可以保證不同板厚的PCB板掃描條帶拼接的一致性。

目前，現有光軸垂直度的檢測結構使用自準直儀、外部平行光源、旋轉臺、升降臺等設施，一方面結構復雜、操作繁復，另一方面外部光源與光學系統本身光源存在差異，將引入誤差。

實用新型內容

本實用新型提供一種用于檢測半導體直寫曝光系統成像光路光軸垂直度的裝置，通過反射光束在分劃板上的位置，檢測成像光路光軸的垂直度。

為解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案：

一種用于檢測曝光系統光軸垂直度的裝置，包括兩自由度的運動平臺、設置在該運動平臺上方的成像鏡筒以及設置在該成像鏡筒上方的DMD芯片，所述運動平臺上安裝有吸盤墊，所述成像鏡筒頂端設置有中間鏤空的分劃板，所述吸盤墊上設置有與所述成像鏡筒相適配的反射鏡。

進一步地，所述分劃板為劃分有10組同心圓的十字圓結構，10組同心圓直徑分別為15mm、20mm、25mm、30mm、35mm、40mm、45mm、50mm、55mm、60mm。

為了便于觀察可視光斑，所述分劃板優選為透明或半透明結構。

優選地，所述DMD芯片、分劃板、成像鏡筒以及反射鏡同軸設置。

優選地，所述分劃板的中間鏤空部分為半徑5mm的圓形。

本實用新型在所述成像鏡筒上方放置中間鏤空、十字圓結構的分劃板，使DMD芯片反射下來的中心光束通過分劃板的鏤空部分，再經過成像鏡筒到達吸盤墊表面，光束通過設置在吸盤墊上的反射鏡反射回成像鏡筒內，再經過成像鏡筒到達分劃板，如果成像光路光軸垂直于吸盤墊時，反射光束就正好通過分劃板的鏤空部分，如果成像光路光軸不垂直于吸盤墊時，反射光束在分劃板鏤空部分外側呈現可視光斑，以此調整和檢測成像光路光軸的垂直度。

由以上技術方案可知，本實用新型對比已有檢測光軸垂直度的結構，具有結構簡單、布局合理、成本低廉、操作簡易的特點，更加貼合于半導體直寫曝光設備成像光路光軸垂直度的檢測與調試。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型中的分劃板的結構示意圖；

圖3為采用本實用新型裝置檢測光軸垂直度，在光軸不垂直于吸盤墊時，反射光束在分劃板鏤空部分外側呈現可視光斑的示意圖；

圖4為采用本實用新型裝置檢測光軸垂直度，在光軸垂直于吸盤墊時，反射光束通過分劃板鏤空部分的示意圖。

圖中：1、運動平臺，2、成像鏡筒，3、DMD芯片，4、吸盤墊，5、分劃板，6、反射鏡，8、鏤空部分，9、可視光斑。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的一種優選實施方式作詳細的說明。

如圖1所示，所述裝置包括運動平臺1、設置在該運動平臺上方的成像鏡筒2以及設置在該成像鏡筒上方的DMD芯片3。

所述運動平臺1能在X、Y方向上移動，該運動平臺上安裝有吸盤墊4。所述DMD芯片由1920*1080個小反射鏡組成，控制所述DMD芯片中間部分的九塊小反射鏡翻轉，投射一束中心光束到成像鏡筒內。所述成像鏡筒2頂端設置有中間鏤空的分劃板5，參照圖2，該分劃板的位置通過四個螺絲通7(1)、7(2)、7(3)、7(4)調整和固定，確保中心光束通過分劃板中間的鏤空部分8，再經過成像鏡筒2到達吸盤墊4表面。所述吸盤墊4上設置有與所述成像鏡筒2相適配的反射鏡6，光束通過反射鏡反射回成像鏡筒內，再經過成像鏡筒到達中間鏤空的分劃板上。如果成像光路光軸垂直于吸盤墊時，反射光束就正好通過分劃板的鏤空部分8，如果成像光路光軸不垂直于吸盤墊時，反射光束在分劃板的鏤空部分8外側呈現可視光斑9，以此調整和檢測成像光路光軸的垂直度。本實施例中，所述DMD芯片3、分劃板5、成像鏡筒2以及反射鏡6需要同軸設置。

通過本實用新型裝置，根據所述可視光斑9具體落于分劃板的位置來判斷需要調整成像鏡筒放置的角度，在調整和檢測成像光路光軸垂直度時，以所述可視光斑9為依據，當光斑消失于分劃板中間的鏤空部分8時，則滿足成像光路光軸垂直度的要求。