[實用新型]一種用于去除光機元件表面微量有機污染物的烘烤裝置

有效

• 申請號: 201520860698.4
• 申請日: 2015-11-02
• 公開（公告）號: CN205128519U
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發明（設計）人: 苗心向;賈寶申;呂海兵;王洪彬;周國瑞;劉昊;程曉鋒;袁曉東;牛龍飛
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 中國工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長明;韓志英

1.一種用于去除光機元件表面微量有機污染物的烘烤裝置，其特征在于：包括紅外烘烤系統、微量空氣循環系統和控制系統；

所述的紅外烘烤系統包括紅外烘烤燈（13）、真空箱體（8）和工作臺（9）；所述的紅外烘烤燈（13）布置在真空箱體（8）內壁的四周，工作臺（9）安裝在真空箱體（8）腔內的底部；

所述的微量空氣循環系統包括風機（1）、空氣管道（2）、密封殼體（3）、空氣過濾器（4）、AMC過濾器（5）、氣體管道Ⅰ（6）、氣體閥門（7）、氣體管道Ⅱ（15）和真空機組（14）；所述的空氣過濾器（4）和AMC過濾器（5）順序連接，封裝在密封殼體（3）內；所述的風機（1）、空氣管道（2）、密封殼體（3）、氣體管道Ⅰ（6）、真空箱體（8）、氣體管道Ⅱ（15）、真空機組（14）順序連接；所述的氣體閥門（7）安裝在氣體管道Ⅰ（6）上；

所述的控制系統包括溫度控制器（10）、真空測量儀（11）和時間控制器（12），安裝在真空箱體（8）的上部，控制真空箱體（8）的溫度、測量真空箱體（8）的真空度，控制烘烤時間。

2.根據權利要求1所述的用于去除光機元件表面微量有機污染物的烘烤裝置，其特征在于，氣體管道Ⅰ（6）設置在真空箱體（8）的側上方，氣體管道Ⅱ（15）設置在真空箱體（8）的側下方。

3.根據權利要求1所述的用于去除光機元件表面微量有機污染物的烘烤裝置，其特征在于，空氣管道（2）、氣體管道Ⅰ（6）、真空箱體（8）和氣體管道Ⅱ（15）內壁平面度小于等于0.5微米。