[實(shí)用新型]一種用于去除光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物的烘烤裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520860698.4
• 申請(qǐng)日: 2015-11-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN205128519U
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 苗心向;賈寶申;呂海兵;王洪彬;周國(guó)瑞;劉昊;程曉鋒;袁曉東;牛龍飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號(hào): B08B7/00
• 分類號(hào): B08B7/00;B08B13/00
• 代理公司: 中國(guó)工程物理研究院專利中心 51210
• 代理人: 翟長(zhǎng)明;韓志英

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物去除領(lǐng)域，具體涉及一種用于去除光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物的烘烤裝置。

背景技術(shù)

高強(qiáng)度激光在許多高新技術(shù)領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用，是當(dāng)代各國(guó)競(jìng)相研究的重要領(lǐng)域。隨著強(qiáng)激光技術(shù)的不斷發(fā)展，特別是慣性約束核聚變系統(tǒng)的研制，光學(xué)系統(tǒng)各個(gè)單元器件所要求承受的功率密度越來(lái)越高。在實(shí)際運(yùn)行當(dāng)中，由于運(yùn)行環(huán)境的影響，熔石英光學(xué)元件和金屬機(jī)械元件表面會(huì)造成各種污染。激光損傷與微缺陷有著密切的關(guān)系，微缺陷是產(chǎn)生激光損傷的重要誘因，大多數(shù)的激光損傷都是從缺陷點(diǎn)處開(kāi)始發(fā)生并逐漸向外發(fā)展的，因此高通量激光裝置的光學(xué)元件在系統(tǒng)高通量運(yùn)行時(shí)，光學(xué)元件表面的雜質(zhì)污染物，形成雜質(zhì)缺陷或鍍膜后的節(jié)瘤缺陷，將導(dǎo)致高拋光度的玻璃或鍍膜表面損傷，降低光學(xué)元件的損傷閾值，另外光學(xué)元件表面殘留的有機(jī)污染物不僅產(chǎn)生有機(jī)吸收和熱透鏡等效應(yīng)降低損傷閾值，也會(huì)降低光學(xué)元件膜層的附著力。因此，為了適應(yīng)更高通量的需求，要求光學(xué)元件有更高的激光損傷閾值，這就要求光學(xué)元件具有很高的潔凈度。

高功率激光裝置中的光學(xué)元件都安裝在機(jī)械元件之上，機(jī)械元件的潔凈度直接關(guān)系到光學(xué)元件的表面潔凈度。通常將光學(xué)元件和機(jī)械元件統(tǒng)稱為光機(jī)元件，因此，保障光機(jī)元件的潔凈度是十分必要的。為了保證清洗方法在實(shí)踐加工中切實(shí)可行，而且保障清洗手段對(duì)光機(jī)元件有高效的潔凈能力。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外已經(jīng)發(fā)展了諸多新清洗技術(shù)，如機(jī)械清洗技術(shù)、激光清洗技術(shù)、超聲波和兆聲波清洗技術(shù)等。

有機(jī)污染物由于分子鏈較長(zhǎng)，附著力較大，比較難于去除。機(jī)械清洗和激光清洗會(huì)造成光機(jī)元件表面的損傷，而超聲和兆聲清洗技術(shù)目前還不能有效去除光機(jī)元件表面或者亞表面的微量有機(jī)污染物。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于去除光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物的烘烤裝置。

本實(shí)用新型的用于去除光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物的烘烤裝置，包括紅外烘烤系統(tǒng)、微量空氣循環(huán)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)；

所述的紅外烘烤系統(tǒng)包括紅外烘烤燈、真空箱體和工作臺(tái)；所述的紅外烘烤燈布置在真空箱體內(nèi)壁的四周，工作臺(tái)安裝在真空箱體腔內(nèi)的底部；

所述的微量空氣循環(huán)系統(tǒng)包括風(fēng)機(jī)、空氣管道、密封殼體、空氣過(guò)濾器、AMC過(guò)濾器、氣體管道Ⅰ、氣體閥門、氣體管道Ⅱ和真空機(jī)組；所述的空氣過(guò)濾器和AMC過(guò)濾器順序連接，封裝在密封殼體內(nèi)；所述的風(fēng)機(jī)、空氣管道、密封殼體、氣體管道Ⅰ、真空箱體、氣體管道Ⅱ、真空機(jī)組順序連接；所述的氣體閥門安裝在氣體管道Ⅰ上；

所述的控制系統(tǒng)包括溫度控制器、真空測(cè)量?jī)x和時(shí)間控制器，安裝在真空箱體的上部，控制真空箱體的溫度、測(cè)量真空箱體的真空度，控制烘烤時(shí)間。

所述的氣體管道Ⅰ設(shè)置在真空箱體的側(cè)上方，氣體管道Ⅱ設(shè)置在真空箱體的側(cè)下方。

所述的空氣管道、密封殼體、氣體管道Ⅰ、真空箱體和氣體管道Ⅱ的材質(zhì)為不銹鋼。

所述的空氣管道、氣體管道Ⅰ、真空箱體和氣體管道Ⅱ內(nèi)壁平面度小于等于0.5微米。

所述的真空箱體中的溫度調(diào)節(jié)范圍為0℃-100℃，控溫精度為±0.1℃。

所述的真空箱體的真空度通過(guò)氣體閥門和真空機(jī)組調(diào)整，真空度大于等于100Pa。

本實(shí)用新型的用于去除光機(jī)元件表面微量有機(jī)污染物的烘烤裝置的工作過(guò)程如下：

a.將光機(jī)元件放置在真空箱體中的工作臺(tái)上，關(guān)閉真空箱體；

b.所有設(shè)備通電；

c.風(fēng)機(jī)工作后，產(chǎn)生的氣流經(jīng)過(guò)空氣管道進(jìn)入密封殼體，經(jīng)過(guò)密封殼體中的空氣過(guò)濾器、AMC過(guò)濾器過(guò)濾后成為潔凈氣體，潔凈氣體經(jīng)過(guò)氣體管道Ⅰ進(jìn)入真空箱體，真空箱體內(nèi)部的紅外烘烤燈烘烤光機(jī)元件，烘烤產(chǎn)生的微量有機(jī)污染物通過(guò)氣體管道Ⅱ被氣流帶走，氣流經(jīng)過(guò)真空機(jī)組排出；

d.根據(jù)需要，調(diào)節(jié)氣體閥門控制氣流大小，調(diào)節(jié)氣體閥門和真空機(jī)組控制真空箱體的真空度，重復(fù)步驟c直至完成；

e.關(guān)閉電源，取出光機(jī)元件。