[實用新型]噴灑涂布光阻用的晶圓載座以及光阻噴灑涂布機

有效

• 申請號: 201520848851.1
• 申請日: 2015-10-29
• 公開（公告）號: CN205217206U
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發明（設計）人: 陳語同;蘇冠群;許傳進;陳鍵輝;葉曉嵐;何彥仕
• 申請（專利權）人: 精材科技股份有限公司
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種噴灑涂布光阻用的晶圓載座，其特征在于，包括：

一晶圓承載平臺，其具有相對的上表面及下表面、以及一環繞該上表面及該下表面的 側表面，其中該上表面用以承載一待噴灑涂布光阻的晶圓，該上表面的面積小于該下表面 的面積，且該待噴灑涂布光阻的晶圓的面積大于該晶圓承載平臺的該上表面的面積；

一支撐座，抵接于該晶圓承載平臺的該下表面，用以支撐該晶圓承載平臺；

多個吹氣孔，分布于該晶圓承載平臺的該側表面；

多個吹氣通道，位于該晶圓承載平臺內，且每一吹氣通道對應連接所述吹氣孔之一；以 及

一氣體供應管路，設置于該支撐座內，且連接一氣體供應源以及所述吹氣通道。

2.根據權利要求1所述的噴灑涂布光阻用的晶圓載座，其特征在于，該側表面與該下表 面夾一銳角。

3.根據權利要求2所述的噴灑涂布光阻用的晶圓載座，其特征在于，所述吹氣通道與該 側表面垂直。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的噴灑涂布光阻用的晶圓載座，其特征在于，該晶 圓承載平臺的該上表面還包括有多個真空抽氣孔，所述真空抽氣孔連接至一真空抽氣泵， 以在待噴灑涂布光阻的晶圓放置在該晶圓承載平臺的該上表面后真空吸附該待噴灑涂布 光阻的晶圓。

5.根據權利要求4所述的噴灑涂布光阻用的晶圓載座，其特征在于，該氣體供應源所供 應的氣體為空氣、氮氣或惰性氣體。

6.一種光阻噴灑涂布機，其特征在于，包括：

一晶圓載座，該晶圓載座包括：

一晶圓承載平臺，其具有相對的上表面及下表面、以及一環繞該上表面及該下表面的 側表面，其中該上表面用以承載一待噴灑涂布光阻的晶圓，且該上表面的表面積小于該下 表面的表面積；

一支撐座，抵接于該晶圓承載平臺的該下表面，用以支撐該晶圓承載平臺；

多個吹氣孔，分布于該晶圓承載平臺的該側表面；

多個吹氣通道，位于該晶圓承載平臺內，且每一吹氣通道對應連接所述吹氣孔之一；及

一氣體供應管路，設置于該支撐座內，且連接一氣體供應源以及所述吹氣通道；以及

一光阻噴灑涂布頭，可移動地設置于該晶圓載座上方，且向該晶圓表面噴灑涂布光阻。

7.根據權利要求6所述的光阻噴灑涂布機，其特征在于，該側表面與該下表面夾一銳 角。

8.根據權利要求7所述的光阻噴灑涂布機，其特征在于，所述吹氣通道與該側表面垂 直。

9.根據權利要求6至8中任一項所述的光阻噴灑涂布機，其特征在于，該晶圓承載平臺 還包括有多個真空抽氣孔，所述真空抽氣孔連接至一真空抽氣泵，以在待噴灑涂布光阻的 晶圓放置在該晶圓承載平臺的該上表面后真空吸附該待噴灑涂布光阻的晶圓。

10.根據權利要求9所述的光阻噴灑涂布機，其特征在于，該氣體供應源所供應的氣體 為空氣、氮氣或惰性氣體。