[實(shí)用新型]噴灑涂布光阻用的晶圓載座以及光阻噴灑涂布機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201520848851.1
• 申請(qǐng)日: 2015-10-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN205217206U
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳語(yǔ)同;蘇冠群;許傳進(jìn);陳鍵輝;葉曉嵐;何彥仕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 精材科技股份有限公司
• 主分類號(hào): B05B13/02
• 分類號(hào): B05B13/02
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型是關(guān)于一種晶圓載座(waferchuck)，且特別是有關(guān)于一種噴灑涂布 (spraycoating)光阻用的晶圓載座。

背景技術(shù)

圖1A所顯示的是一種已知的噴灑涂布(spray-coating)光阻用的晶圓載座100，其 包括一支撐座110以及一晶圓承載平臺(tái)120，晶圓承載平臺(tái)120具有一上表面120a、一下表面 120b以及一環(huán)繞上、下表面邊緣的側(cè)表面120C，其中上、下表面120a、120b的面積相等。上表 面120a用以承載待噴灑涂布光阻的晶圓130，而下表面120b則與支撐座110互相抵接，使得 晶圓承載平臺(tái)120得以被支撐座110所支撐。

如圖1B所示，利用已知的噴灑涂布光阻制程，在晶圓130上形成一光阻層150，然由 于晶圓130與晶圓承載平臺(tái)120間完全重疊，故在噴灑涂布光阻制程完成后，要將表面形成 有一光阻層150的晶圓130自晶圓支撐平臺(tái)120的上表面120a取下，將會(huì)較困難。

有鑒于此，已知另一種如圖2A所示的晶圓載座乃被提出，用以改善上述已知晶圓 載座的缺點(diǎn)。

圖2A顯示的另一種已知的噴灑涂布光阻用的晶圓載座200，其包括一支撐座210以 及一晶圓承載平臺(tái)220，晶圓承載平臺(tái)220具有一上表面220a、一下表面220b以及一環(huán)繞上、 下表面邊緣的側(cè)表面220c，且為了改善上述已知晶圓載座100的缺點(diǎn)，乃設(shè)計(jì)使晶圓承載平 臺(tái)220的下表面220b的面積大于其上表面220a的面積，使得側(cè)表面220c與下表面220b間形 成一銳角。上表面220a用以承載待噴灑涂布光阻的晶圓230，而下表面220b則與支撐座210 互相抵接，使得晶圓承載平臺(tái)220得以被支撐座210所支撐。

如圖2B所示，將一晶圓230放置于晶圓承載平臺(tái)220的上表面220a上，由于晶圓230 的面積大于晶圓承載平臺(tái)220的上表面220a，故晶圓230的背面有部分不與上表面200a重疊 而暴露出來(lái)，故在晶圓230表面的光阻噴灑涂布制程完成后，將可輕易自晶圓承載平臺(tái)220 的上表面220a被取下。

圖2C所顯示的是利用已知的噴灑涂布光阻用的晶圓載座200，使放置于其晶圓承 載平臺(tái)220的上表面220a上的晶圓230被噴灑涂布光阻的示意圖。其中，圖式中由上而下的 虛線箭號(hào)顯示霧狀光阻噴灑涂布的方向，然有部分霧狀光阻在噴灑過(guò)程中經(jīng)由晶圓230邊 緣吹拂晶圓230背面的暴露部位，導(dǎo)置有不想要的光阻殘余物250’沉積于此處。

如圖2D所示，在噴灑涂布光阻的制程結(jié)束后，晶圓230自晶圓承載平臺(tái)220的上表 面220a雖可被輕易取下，但晶圓230背面的暴露區(qū)卻有不想要的光阻殘余物250’沉積于此 處，這些不想要的光阻殘余物250’將會(huì)對(duì)后續(xù)制程造成不利的影響，故在進(jìn)行后續(xù)制程前 必須先以光阻剝除液剝除這些光阻殘余物250’，額外增加制程的復(fù)雜度以及成本。

有鑒于此，一種可改善上述缺點(diǎn)的新穎噴灑涂布光阻用的晶圓載座以及包含有此 種新穎晶圓載座的光阻噴灑涂布機(jī)乃是業(yè)界所殷切期盼的。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的一目的是提供一種噴灑涂布光阻用的晶圓載座，包括：一晶圓承載 平臺(tái)，其具有相對(duì)的上表面及下表面、以及一環(huán)繞該上表面及該下表面的側(cè)表面，其中該上 表面用以承載一待噴灑涂布光阻的晶圓，該上表面的面積小于該下表面的面積，且該待噴 灑涂布光阻的晶圓的面積大于該晶圓承載平臺(tái)的該上表面的面積；一支撐座，抵接于該晶 圓承載平臺(tái)的該下表面，用以支撐該晶圓承載平臺(tái)；多個(gè)吹氣孔，分布于該晶圓承載平臺(tái)的 該側(cè)表面；多個(gè)吹氣通道，位于該晶圓承載平臺(tái)內(nèi)，且每一吹氣通道對(duì)應(yīng)連接所述吹氣孔 之一；以及一氣體供應(yīng)管路，設(shè)置于該支撐座內(nèi)，且連接一氣體供應(yīng)源以及所述吹氣通道。

本實(shí)用新型的另一目的是提供如上所述的晶圓載座，其中該側(cè)表面與該下表面夾 一銳角。

本實(shí)用新型的另一目的是提供如上所述的晶圓載座，其中所述吹氣通道與該側(cè)表 面垂直。

本實(shí)用新型的另一目的是提供如上所述的晶圓載座，其中該晶圓承載平臺(tái)的該上 表面還包括有多個(gè)真空抽氣孔，所述真空抽氣孔連接至一真空抽氣泵，以在待噴灑涂布光 阻的晶圓放置在該晶圓承載平臺(tái)的該上表面后真空吸附該待噴灑涂布光阻的晶圓。

本實(shí)用新型的另一目的是提供如上所述的晶圓載座，其中該氣體供應(yīng)源所供應(yīng)的 氣體可為空氣、氮?dú)饣蚨栊詺怏w。